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KLA Corporation Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

1.908
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
24
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.908 gesamt
Patent
06.11.2008
Optical gain approach for enhancement of overlay and alignment systems performance
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
30.10.2008
Methods and systems for creating or performing a dynamic sampling scheme for a process during which measurements are performed on wafers
Steuerungs- & Regelungstechnik
02.10.2008
Temperature Effects On Overlay Accuracy
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.09.2008
Methods for identifying array areas in dies formed on a wafer and methods for setting up such methods
Software & Datenverarbeitung
04.09.2008
Methods for accurate identification of an edge of a care area for an array area formed on a wafer and methods for binning defects detected in an array area formed on a wafer
Software & Datenverarbeitung
28.08.2008
Method and instrument for chemical defect characterization in high vacuum
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
28.08.2008
Process condition measuring device
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
31.07.2008
Purge gas flow control for high-precision film measurements using ellipsometry and reflectometry
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
17.07.2008
Methods and systems for using electrical information for a device being fabricated on a wafer to perform one or more defect-related functions
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
16.07.2008
Verbesserte Linse für Mikroskopische Untersuchung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
26.06.2008
Systems and methods for creating inspection recipes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung
12.06.2008
Methods, designs, defect review tools, and systems for determining locations on a wafer to be reviewed during defect review
Software & Datenverarbeitung
28.03.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von Retikeln mit paralleler Verarbeitung
Software & Datenverarbeitung
03.01.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Untersuchung von Retikeln mit Paralleler Verarbeitung
Software & Datenverarbeitung
19.01.2005
Breitbandiges Katadioptrisches Uv-Abbildungssystem
Optik & Fototechnik
22.01.2004
Overlay Error Detection
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
23.07.2003
Verbesserte Teststrukturen, deren Inspektionsmethode und Verwendung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.07.2003
Messmarkierung mit Verbesserter Überlagerungsausrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
17.07.2003
Differential detector coupled with defocus for improved phase defect sensitivity
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.07.2003
Design Driven Inspection Or Measurement
Software & Datenverarbeitung
03.07.2003
Parametric profiling using optical spectroscopic systems
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
19.06.2003
A photoelectron emission microscope for wafer and reticle inspection
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.06.2003
Methode und System zur Halbleiterherstellung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.05.2003
Method and apparatus for the production of process sensitive lithographic features
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.05.2003
Messung der Folienstärke durch Elektronenstrahl Induzierte Röntgen-Mikroanalyse
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.04.2003
Systems and methods for forming an image of a specimen at an oblique viewing angle
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
06.03.2003
Predicting Chip Yields Through Critical Area Matching
Software & Datenverarbeitung
13.02.2003
Systems and methods for measuring properties of conductive layers
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.02.2003
Symmetrisches Differenz-Interferometer mit Streifendem Einfall mit Verringerter Kohärenz
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
09.01.2003
Apparatus and methods for monitoring self-aligned contact arrays
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.01.2003
Wafer-Inspektion mit Optimierter Geometrie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
09.01.2003
Energy Filter Multiplexing
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.01.2003
Apparatus and methods reliable and efficient detection of voltage contrast defects
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
09.01.2003
I in-situ /i end point detection for semiconductor wafer polishing
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
03.01.2003
Systems and methods for inspection of transparent mask substrates
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
03.01.2003
Apparatus and methods for reducing thin film color variation in optical inspection of semiconductor devices and other surfaces
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
03.01.2003
Method for determining lithographic focus and exposure
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.01.2003
Systems and methods for a wafer inspection system using multiple angles and multiple wavelength illumination
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
19.12.2002
Apparatus and methods for modeling process effects and imaging effects in scanning electron microscopy
Software & Datenverarbeitung
21.11.2002
Advanced phase shift inspection method
Optik & Fototechnik

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