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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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6.250 gesamt
Patent
29.12.2004
Verfahren zur Bildung eines Zugrundeliegenden Isolationsfilms
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.12.2004
Method and equipment for inspecting electric characteristics of specimen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.12.2004
Heat treatment apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
23.12.2004
Process for depositing film, process for fabricating semiconductor device, semiconductor device and system for depositing film
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.12.2004
Treatment gas supply mechanism, film-forming device, and film-forming method
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.12.2004
Methode und System, einen Oxynitridfilm herzustellen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.12.2004
Substratverarbeitungseinrichtung und Substratverarbeitungsverfahren, Schnelle Drehventile, Reinigungsverfahren
Maschinenelemente & Fluidtechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.12.2004
Relative pressure control system and relative flow rate control system
Steuerungs- & Regelungstechnik
16.12.2004
Method for data pre-population
Steuerungs- & Regelungstechnik
16.12.2004
Method and system for heating a substrate using a plasma
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.12.2004
Method and system for using ion implantation for treating a low-k dielectric film
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.12.2004
Adaptable processing element for a processing system and a method of making the same
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.12.2004
Method for modifying insulating film
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.12.2004
Plasma source and plasma processing apparatus
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
09.12.2004
Apparatus and methods for compensating plasma sheath non-uniformities at the substrate in a plasma processing system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.12.2004
Zerschneideverfahren, Verfahren zur Untersuchung eines Integrierten Schaltungselements, Substrathalteeinrichtung und Druckhaftfilm
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.12.2004
Cvd method for forming silicon nitride film
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.12.2004
Temperature measuring system and temperature measuring method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.12.2004
Verfahren zur Passivierung von Materialien mit Niedrigem Dielektrikum bei der Waferverarbeitung
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
01.12.2004
Ätzmethode und Plasmabehandlungsmethode
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.12.2004
Substratträgermechanismus für ein Halbleiterverarbeitungssystem
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.11.2004
Method system and computer readable medium for monitoring the status of a chamber process
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.11.2004
Verfahren zum Ätzen einer Metalloxid-Verbindungsschicht und Behandlungsvorrichtung
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
18.11.2004
Hybrid ball-lock attachment apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
18.11.2004
Processing schedule making method, coating/developing apparatus, pattern forming device, and processing system
Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.11.2004
Method and apparatus for processing organosiloxane film
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.11.2004
Method and apparatus for treating organosiloxane coating film
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.11.2004
Process gas introducng mechanism and plasma processing device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.11.2004
Verfahren und Vorrichtung zum Ätzen eines Tiefen Grabens in Silizium
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.11.2004
Methode und Vorrichtung zur Beobachtung einer porösen, amorphen Schicht und Methode und Vorrichtung zur Herstellung derselben.
Metallurgie & Oberflächentechnik
10.11.2004
Resisttrocknung mit einem Lösungsbad und Superkritischem Co Sb 2 /sb
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
10.11.2004
Kompaktes Schieberventil
Maschinenelemente & Fluidtechnik
10.11.2004
Cvd-Verfahren und Einrichtung zur Ausbildung eines Siliziumhaltigen Isolationsfilms
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.11.2004
Verarbeitungseinrichtung und Verarbeitungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.11.2004
Semiconductor device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.11.2004
Plasma processing system and method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.11.2004
Method and system for temperature control of a substrate
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
04.11.2004
Method and apparatus for reducing substrate backside deposition during processing
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.11.2004
A method for adjoining adjacent coatings on a processing element
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.11.2004
A barrier layer for a processing element and a method of forming the same
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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