Tokyo Electron Patente
🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414
Patente
2000–2024
Anmeldejahre
25
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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2.414 gesamt| Patent | |||
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18.05.2006
Method for detecting extraneous matter on thermal treatment plate, thermal treatment device, program, and computer readable recording medium containing the program
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.11.2005
Anhängig
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11.05.2006
Insulating film forming method and substrate processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.11.2005
Anhängig
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11.05.2006
Liquid treatment apparatus and method for operating same
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 08.11.2005
Anhängig
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11.05.2006
Film forming equipment and film forming method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 31.10.2005
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04.05.2006
Substrate treating device and substrate rotating device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 27.10.2005
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27.04.2006
Plasma sputtering film deposition method and equipment
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 18.10.2005
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27.04.2006
Plasma sputtering film deposition method and equipment
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 18.10.2005
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20.04.2006
Treatment liquid supply device
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 07.10.2005
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19.04.2006
Logarithmischer A/d Wandler, Verfahren zur Logotithmischen A/d Wandlung, Logarithmischer D/a-Wandler,verfahren zur Logarothmischen D/a-Wandlung und System zum Messen einer Physischen Grösse
Elektronik & Schaltungstechnik
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13.04.2006
A method for forming a thin complete high-permittivity dielectric layer
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Angemeldet am 31.08.2005
Anhängig
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13.04.2006
A method for supercritical carbon dioxide processing of fluoro-carbon films
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 30.08.2005
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16.03.2006
Pump unit for feeding chemical liquid
Verfahrens- & Trenntechnik
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen)
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Angemeldet am 29.07.2005
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16.03.2006
Thin film capacitor, method for forming same, and computer readable recording medium
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.09.2005
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09.03.2006
Method and system for etching a film stack
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 30.06.2005
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16.02.2006
Film forming apparatus and vaporizer
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.08.2005
Anhängig
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08.02.2006
Vertikale Wärmebehandlungsvorrichtung und Substrat-Transferverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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11.01.2006
Wärmebehandlungsanlage
Metallurgie & Oberflächentechnik
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
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Status
Angemeldet am 26.01.2001
Erteilt am 11.01.2006
Vertretung
Liesegang, Roland · München
Liesegang, Roland · München
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05.01.2006
Carrier support device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 20.06.2005
Anhängig
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29.12.2005
Heat treatment device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 16.06.2005
Anhängig
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08.12.2005
Liquid treatment system and liquid treatment method
Verfahrens- & Trenntechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 31.03.2005
Anhängig
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01.12.2005
Method and device for measuring whether a process kit part meets a prescribed tolerance
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Angemeldet am 27.01.2005
Anhängig
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10.11.2005
Vacuum treatment device
Verpackungs- & Fördertechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 12.04.2005
Anhängig
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03.11.2005
Method and processing system for plasma-enhanced cleaning of system components
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.01.2005
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03.11.2005
Wafer Heater Assembly
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.02.2005
Anhängig
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03.11.2005
System and method of removing chamber residues from a plasma processing system in a dry cleaning process
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 28.01.2005
Anhängig
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03.11.2005
Method and system for fastening components used in plasma processing
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Angemeldet am 27.01.2005
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03.11.2005
A method for processing a substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2005
Anhängig
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03.11.2005
Low Reflection Microwave Window
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.02.2005
Anhängig
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03.11.2005
A method of forming a tantalum-containing gate electrode structure
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 15.02.2005
Anhängig
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02.11.2005
Verfahren und Vorrichtung zum Verwenden einer Beschichtung Zumerweiterten Halten eines Halbleitersubstrats Während Hochdruckverarbeitung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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26.10.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabeschichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.03.2001
Erteilt am 26.10.2005
Vertretung
Liesegang, Roland · München
Liesegang, Roland · München
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13.10.2005
Silizium-Germanium-Obrflächenschicht für die Integration von Dielektrika mit Hohem K
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.01.2005
Anhängig
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06.10.2005
Replacing Chamber Components in A Vacuum Environment
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2005
Anhängig
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05.10.2005
Ein Verfahren und eine Vorrichtung um ein Materialherstellungssystem zu Überwachen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.09.2005
Method for detecting transfer shift of transfer mechanism and semiconductor processing equipment
Verpackungs- & Fördertechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.02.2005
Anhängig
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09.09.2005
Method for manufacturing semiconductor device and plasma oxidation method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 01.03.2004
Anhängig
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09.09.2005
Semiconductor treating device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.02.2005
Anhängig
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18.08.2005
Method and apparatus for determining chemistry of part's residual contamination
Software & Datenverarbeitung
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Angemeldet am 10.11.2004
Anhängig
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18.08.2005
Structure comprising amorphous carbon film and method of forming thereof
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.12.2004
Anhängig
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11.08.2005
Method for cleaning process chamber of substrate processing apparatus, substrate processing apparatus, and method for processing substrate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.01.2005
Anhängig
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Wer vertritt Tokyo Electron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Electron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
2.007
Metallurgie & Oberflächentechnik
651
Elektronik & Schaltungstechnik
322
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
211
Optik & Fototechnik
172
Verfahrens- & Trenntechnik
139
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
54
Software & Datenverarbeitung
50
Steuerungs- & Regelungstechnik
48
Verpackungs- & Fördertechnik
44
Pharma & Biotechnologie
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
28