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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
17.02.2005
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zum Einbringen einer Immersionsflüssigkeit in einen Immersionsraum
WO2005015315
Optik & Fototechnik
17.02.2005
Projection objective for microlithography
WO2005015316
Optik & Fototechnik
17.02.2005
Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus
WO2005015310
Optik & Fototechnik
16.02.2005
Verfahren zur Gezielten Deformation eines Optischen Elements
EP1506455
Optik & Fototechnik
09.02.2005
Projektionsverfahren mit Pupillenfilterung und Projektionsobjektiv hierfür
EP1504308
Optik & Fototechnik
02.02.2005
Linse aus Kristallmaterial
EP1502157
Optik & Fototechnik
02.02.2005
Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elementes aus Quarzsubstrat
EP1502132
Optik & Fototechnik
02.02.2005
Projektionsobjektiv Höchster Apertur
EP1502158
Optik & Fototechnik
26.01.2005
Beleuchtungssystem, insbesondere F R die Euv-Lithographie
EP1499925
Optik & Fototechnik
20.01.2005
Beleuchtungseinrichtung F R eine Mikrolithographische Projek Tionsbelichtungsanlage
WO2005006079
Optik & Fototechnik
20.01.2005
Method and device for spectrally separating lines of a light beam, in particular of a laser light beam
WO2005006057
Optik & Fototechnik
13.01.2005
Vorrichtung zur Polarisationsspezifischen Untersuchung eines Optischen Systems
WO2005003862
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
12.01.2005
Interferometrische Messvorrichtung und Projektionsbelichtungsanlage mit Derartiger Messvorrichtung
EP1495369
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
12.01.2005
Vorrichtung zur polarisationsspezifischen Untersuchung, optisches Abbildungssystem und Kalibrierverfahren
EP1496398
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
05.01.2005
Vorrichtung zum Verstellen der Lage zweier Bauelemente zueinander
EP1182485
Optik & Fototechnik
29.12.2004
Kollektoreinheit mit einem Reflektiven Element für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge Kleiner als 193 Nm
EP1490733
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
23.12.2004
Projektionsobjektiv sowie Verfahren zum Auswählen von Optischen Materialien in einem Derartigen Objektiv
WO2004111690
Optik & Fototechnik
15.12.2004
Gitterelement zum Filtern von Wellenlängen = 100NM
EP1485759
Optik & Fototechnik
15.12.2004
Refraktives Projektionsobjektiv für die Immersionslithographie
EP1485760
Optik & Fototechnik
15.12.2004
Vorrichtung zur Manipulation der Winkellage eines Gegenstands gegen Ber einer Festen Struktur
EP1485762
Optik & Fototechnik
09.12.2004
Projektionsbelichtungsanlage
WO2004107054
Optik & Fototechnik
09.12.2004
Elektrodenanordnung und deren Verwendung
WO2004107055
Optik & Fototechnik
09.12.2004
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2004107048
Optik & Fototechnik
08.12.2004
Polarisations-Kompensator und Mikrolithographie-Projektionsanlage mit Polarisations-Kompensator
EP1260849
Optik & Fototechnik
08.12.2004
Projektionsobjektiv Höchster Apertur
EP1483625
Optik & Fototechnik
08.12.2004
Optisches System mit Doppelbrechenden Optischen Elementen
EP1483616
Optik & Fototechnik
08.12.2004
Moire-Verfahren und Messsystem zur Messung der Verzerrung eines Optischen Abbildungssystems
EP1483559
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
08.12.2004
Objektiv mit Kristall-Linsen
EP1483614
Optik & Fototechnik
08.12.2004
Refraktives Projektionsobjektiv
EP1483626
Optik & Fototechnik
01.12.2004
Refraktives Projektionsobjektiv mit einer Taille
EP1481286
Optik & Fototechnik
01.12.2004
Vermeidung und Entfernung von Kontamination auf optischen Elementen
EP1481287
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
25.11.2004
Polarization-optimized axicon system, and an illuminating system for microlithographic projection system having such an axicon system
WO2004102230
Optik & Fototechnik
25.11.2004
Beleuchtungssystem mit Axikon-Modul
WO2004102273
Optik & Fototechnik
25.11.2004
Axiconsystem und Beleuchtungssystem damit
WO2004102224
Optik & Fototechnik
18.11.2004
Optische Messvorrichtung und Betriebsverfahren für ein Optisches Abbildungssystem
WO2004099877
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.11.2004
Verfahren zur Vermeidung von Kontamination und Euv-Lithographievorrichtung
WO2004099878
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
18.11.2004
Beleuchtungssystem F R eine Mikrolithographie-Projektionsbel Ichtungsanlage
WO2004099873
Optik & Fototechnik
11.11.2004
Reflektives Optisches Element, Optisches System und Euv-Lithographievorrichtung
WO2004097467
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
10.11.2004
Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie für 200 nm
EP1304594
Optik & Fototechnik
10.11.2004
Polarisationsoptimiertes Beleuchtungssystem
EP1474726
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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