Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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16.03.2017
Elektromagnetischer Antrieb mit einem Stator und einem Statorhalter
Elektrische Energietechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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15.03.2017
Monitorsystem zur Bestimmung der Ausrichtungen von Spiegelelementen und Euv-Lithografiesystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.10.2013
Erteilt am 15.03.2017
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
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15.03.2017
Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie
Optik & Fototechnik
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02.03.2017
Anordnung einer Vorrichtung zum Schutz eines in einer Objektebene Anzuordnenden Retikels gegen Verschmutzung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.08.2016
Anhängig
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23.02.2017
Optical imaging arrangement with actively adjustable metrology support units
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.08.2016
Anhängig
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23.02.2017
Euv-Lithographieanlage und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.08.2016
Anhängig
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16.02.2017
Euv-Lithographiesystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.08.2016
Anhängig
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16.02.2017
Optisches system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.08.2016
Anhängig
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25.01.2017
Teilchenoptische Systeme und Anordnungen sowie Teilchenoptische Komponenten für Derartige Systeme und Anordnungen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.09.2011
Erteilt am 25.01.2017
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
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25.01.2017
Schwingungsdämpfung in Projektionsbelichtungsgeräten für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.09.2009
Erteilt am 25.01.2017
Vertretung
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18.01.2017
Spiegel für Vorrichtung zur Belichtung von Mikrolithographischer Projektion
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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12.01.2017
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer Derartigen Abbildenden Optik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.07.2016
Anhängig
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12.01.2017
Verfahren zur Steuerung einer Strahlführungsvorrichtung und Strahlführungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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28.12.2016
Optische Beleuchtungseinheit für Projektionslithografie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.02.2015
Anhängig
Vertretung
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22.12.2016
Optisches system
Optik & Fototechnik
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21.12.2016
Polarisator zur Kompensation von zeitabhänigen Polarisationsverteilung in der Beleuchtungseinheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.11.2008
Erteilt am 21.12.2016
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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14.12.2016
Beleuchtungsgerät und Verfahren zur Steuerung der Energie einer Laserquelle
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.01.2009
Erteilt am 14.12.2016
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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14.12.2016
Beleuchtungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.08.2014
Erteilt am 14.12.2016
Vertretung
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08.12.2016
Sondensystem und Verfahren zum Aufnehmen einer Sonde eines Rastersondenmikroskops
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 02.06.2016
Anhängig
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08.12.2016
Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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01.12.2016
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer Derartigen Abbildenden Optik
Optik & Fototechnik
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01.12.2016
Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage sowie Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage mit einem Solchen Beleuchtungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.05.2016
Anhängig
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01.12.2016
Pupil Facet Mirror
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.05.2016
Anhängig
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24.11.2016
Sensoranordnung und Verfahren zur Ermittlung einer Jeweiligen Position einer Anzahl von Spiegeln einer Lithographieanlage
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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24.11.2016
Projektionslinse mit Wellenfrontmanipulator sowie Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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24.11.2016
Verfahren zum Herstellen eines Objektivs für eine Lithographieanlage sowie Messvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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24.11.2016
Beleuchtungsoptik für die Euv-Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.05.2016
Anhängig
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24.11.2016
Pupillenfacettenspiegel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.05.2016
Anhängig
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24.11.2016
Sensoranordnung und Verfahren zur Ermittlung einer Jeweiligen Position einer Anzahl von Spiegeln einer Lithographieanlage
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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24.11.2016
Verfahren zum Betrieb einer Mikrolithografischen Projektionsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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17.11.2016
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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27.10.2016
Spiegel, insbesondere für eine Belichtungsvorrichtung für Mikrolithografische Projektion
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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20.10.2016
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer Derartigen Abbildenden Optik
Optik & Fototechnik
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29.09.2016
Verfahren zum Herstellen eines Reflektiven Optischen Elements und Reflektives Optisches Element
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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29.09.2016
Zoomsystem mit Auswechselbaren Optischen Elementen
Optik & Fototechnik
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15.09.2016
Cleaning device for an euv lithography system, euv lithography system with such a device and cleaning method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.03.2016
Anhängig
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14.09.2016
Optische Abbildungsvorrichtung mit Wärmedämpfung
Optik & Fototechnik
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25.08.2016
Baugruppe eines Optischen Systems, insbesondere einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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18.08.2016
Beleuchtungsoptik für die Euv-Projektionslithografie
Optik & Fototechnik
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11.08.2016
Anordnung zur Positionsmanipulation eines Elementes, insbesondere in einem Optischen System
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11