Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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2.391 gesamt| Patent | |||
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18.08.2022
System und Projektionsbelichtungsanlage
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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18.08.2022
Filteranordnung, insbesondere für einen Regelkreis zum Regeln der Position wenigstens eines Elementes
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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18.08.2022
Verfahren zum Heizen eines Optischen Elements in einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Optisches System
Optik & Fototechnik
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18.08.2022
Verfahren zur Justage eines Optischen Systems, insbesondere für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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11.08.2022
Verfahren zur Identifizierung und / oder Lokalisierung von Bauteilfehlern und Anwendung in Mikrolithographiesystemen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.02.2022
Anhängig
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04.08.2022
Reflektives Optisches Element und Verfahren zur Reparatur Und/oder Aufbereitung eines Reflektiven Optischen Elements
Fahrzeugtechnik (Automobil, Bahn & Schiff)
Optik & Fototechnik
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04.08.2022
Optisches System, sowie Verfahren zum Betreiben eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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04.08.2022
Spiegel, Optisches System und Verfahren zum Betreiben eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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28.07.2022
Optisches System, Lithographieanlage und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.01.2022
Anhängig
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28.07.2022
Verfahren sowie Vorrichtung zum Bestimmen des Erwärmungszustandes eines Optischen Elements in einem Optischen System
Optik & Fototechnik
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28.07.2022
Verfahren zum Einrichten eines Projektionsbelichtungssystems, Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungssystem für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.01.2021
Anhängig
Vertretung
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27.07.2022
Steckeranordnung, System und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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27.07.2022
Facettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.09.2020
Anhängig
Vertretung
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20.07.2022
Vorrichtung zur Reinigung einer Oberfläche im Inneren eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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14.07.2022
Verfahren zur Flächenhaften Bestimmung einer Karte wenigstens eines Strukturparameters einer Strukturierten Oberfläche eines Diffraktiven Optischen Elements
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 07.01.2022
Anhängig
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13.07.2022
Lithographieanlage mit einer Vorrichtung zur Übertragung von Elektrischen Signalen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.09.2017
Erteilt am 13.07.2022
Vertretung
HKW Intellectual Property PartG mbB · München
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29.06.2022
Optisches Abbildungssystem
Optik & Fototechnik
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29.06.2022
Diffraktives Optisches Element für ein Prüfinterferometer
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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29.06.2022
Steuerungsvorrichtung zur Steuerung mindestens eines Manipulators eines Projektionsobjektivs
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Eine Steuerungsvorrichtung (14; 114) zur Steuerung mindestens eines Manipulators (M1, M2, M3, M4; 36) eines Projektionsobjektivs (16) für die Mikrolithographie durch Generierung eines Stellwegbefehls (38; 138), welcher eine vorzunehmende Veränderung einer optischen Wirkung mindestens eines optischen Elements (L1, L2, L3, L4) des Projektionsobjektivs durch Manipulation einer Eigenschaft des optischen Elements mittels des mindestens einen Manipulators entlang eines Stellweges definiert, wird bereitgestellt. Die Steuerungsvorrichtung ist dazu konfiguriert, aus einer Zustandscharakterisierung (34) des Projektionsobjektivs den Stellwegbefehl für den mindestens einen Manipulator durch Optimierung einer Gütefunktion zu generieren. Dabei umfasst die Gütefunktion eine Linearkombination mindestens zweier Potenzen, eine die Manipulation der Eigenschaft des optischen Elements (L1, L2, L3, L4) definierende Einstellung des mindestens einen Manipulators (M1, M2, M3, M4; 36) wird mittels einer Stellwegvariablen dargestellt und die jeweilige Basis der mindestens zwei Potenzen enthält eine Funktion der Stellwegvariablen ( Xi , x n L ). Weiterhin weisen die Exponenten der mindestens zwei Potenzen unterschiedliche Werte auf. |
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23.06.2022
Dämpfungseinrichtung, Optische Baugruppe und Projektionsbelichtungsanlage
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2021
Anhängig
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22.06.2022
Beleuchtungsoptik für die Euv-Projektionslithografie sowie Optisches System mit einer Derartigen Beleuchtungsoptik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.03.2013
Erteilt am 22.06.2022
Vertretung
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15.06.2022
Verfahren zur Behandlung eines Reflektiven Optischen Elements für den Euv-Wellenlängenbereich, Verfahren zu dessen Herstellung und Behandlungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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02.06.2022
Feldfacettensystem und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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02.06.2022
Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion einer Schweißnaht in einer Baugruppe eines Optischen Systems für die Mikrolithographie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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02.06.2022
Feldfacettensystem und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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01.06.2022
Modulationsvorrichtung, Ansteuervorrichtung, Optisches System, Lithographieanlage und Verfahren
Elektrische Energietechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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01.06.2022
Verfahren, Messsystem und Lithographiegerät
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.04.2019
Erteilt am 01.06.2022
Vertretung
HKW Intellectual Property PartG mbB · München
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27.05.2022
Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines Optischen Elementes für die Halbleiterlithographie und Grundkörper eines Optischen Elementes für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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18.05.2022
Messverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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12.05.2022
Heating an optical element of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.08.2021
Anhängig
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12.05.2022
Übertragung von Ausrichtungsinformationen in der 3D-Tomographie von einem Ersten Satz von Bildern zu einem Zweiten Satz von Bildern
Software & Datenverarbeitung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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04.05.2022
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 24.04.2019
Erteilt am 04.05.2022
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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04.05.2022
Vielspiegel-Anordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.03.2016
Erteilt am 04.05.2022
Vertretung
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28.04.2022
Binäre Intensitätsmaske für den Euv-Spektralbereich
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.10.2021
Anhängig
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28.04.2022
Projection exposure apparatus comprising a heating device and a polarizer
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.10.2021
Anhängig
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28.04.2022
Apparatus for determining a distance, method for determining a distance, and lithography system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.10.2021
Anhängig
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21.04.2022
Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Aktoren in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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21.04.2022
Abstützung eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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21.04.2022
Optische Komponente und Verfahren zur Justage der Optischen Komponente, sowie Projektionsbelichtungsanlage
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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14.04.2022
Adaptives Optisches Element für die Mikrolithographie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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