Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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27.09.2017
Reflexionsmaske für Euv-Lithografie
Optik & Fototechnik
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21.09.2017
Optische Vorrichtung für eine Lithographieanlage sowie Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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14.09.2017
Verfahren zum Herstellen eines Beleuchtungssystems für eine Euv-Projektionsbelichtungsanlage und Beleuchtungssystem
Optik & Fototechnik
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14.09.2017
Strahlteiler für Streifenden Lichteinfall
Optik & Fototechnik
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08.09.2017
Vorrichtung zum Verändern einer Oberflächenform eines Optischen Elements mittels Elektronenbestrahlung
Optik & Fototechnik
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17.08.2017
Spiegel für den Euv Spektralbereich
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2017
Anhängig
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16.08.2017
Vorrichtung und Methode zur Untersuchung oder Modifizierung einer Oberfläche mittels Ladungsträgerstrahls
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.04.2004
Erteilt am 16.08.2017
Vertretung
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16.08.2017
Verfahren zum Ermitteln einer Reparaturform eines Defekts an oder in der Nähe einer Kante eines Musters einer Photomaske
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.09.2009
Erteilt am 16.08.2017
Vertretung
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19.07.2017
Reflektives Optisches Element und Verfahren zu Seiner Herstellung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.05.2009
Erteilt am 19.07.2017
Vertretung
Werner, Anne-Estelle · Münster
Werner & ten Brink · Münster
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12.07.2017
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und Optische Partikelkomponenten für Solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 07.09.2004
Erteilt am 12.07.2017
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
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29.06.2017
Illumination system of a microlithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2016
Anhängig
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29.06.2017
Vorrichtung und Verfahren zur Wellenfrontanalyse
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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29.06.2017
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer Derartigen Abbildenden Optik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2016
Anhängig
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22.06.2017
Reflektives Optisches Element
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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22.06.2017
Vorrichtung zur Ausrichtung einer Komponente
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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22.06.2017
Optisches System, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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22.06.2017
Optische Vorrichtung für eine Lithografische Vorrichtung und Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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15.06.2017
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsanlage und Verfahren zum Betreiben eines Solchen Systems
Optik & Fototechnik
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14.06.2017
Schutzmodul für Euv-Lithographievorrichtung, sowie Euv-Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
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08.06.2017
Bestimmung des Thermischen Ausdehnungskoeffizienten als Funktion der Temperatur
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 16.11.2016
Anhängig
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08.06.2017
Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage oder einer Waferinspektionsanlage
Optik & Fototechnik
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08.06.2017
Verfahren zum Polieren einer Optischen Oberfläche und Optisches Element
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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08.06.2017
Optische Abbildungsanordnung mit Aktiv Einstellbaren Metrologiestützeinheiten
Optik & Fototechnik
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31.05.2017
Projektionsobjektiv mit Obskurisierter Pupille für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.09.2008
Erteilt am 31.05.2017
Vertretung
Witte, Weller & Partner · Stuttgart
Witte, Weller & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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24.05.2017
Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgerätes
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.02.2014
Erteilt am 24.05.2017
Vertretung
Ostertag & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
Ostertag & Partner Patentanwälte · Stuttgart
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24.05.2017
Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgerätes
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.02.2014
Erteilt am 24.05.2017
Vertretung
Carl Zeiss AG - Patentabteilung · Oberkochen
Ostertag & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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18.05.2017
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer Derartigen Abbildenden Optik
Optik & Fototechnik
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18.05.2017
Anordnung für eine Lithographieanlage und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.10.2016
Anhängig
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18.05.2017
Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer Derartigen Abbildenden Optik
Optik & Fototechnik
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03.05.2017
Euv Spiegelanordnung, Optisches System mit einer Euv-Spiegelanordnung und Verfahren für die Bedienung eines Optischen Systems mit einer Euv-Spiegelanordnung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 21.03.2012
Erteilt am 03.05.2017
Vertretung
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26.04.2017
Mikrolithographie-Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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12.04.2017
Projektionsbelichtungsvorrichtung mit der Möglichkeit Optimierter Justierung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.09.2009
Erteilt am 12.04.2017
Vertretung
Carl Zeiss AG - Patentabteilung · Oberkochen
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05.04.2017
Verfahren und Einrichtungen zur Ansteuerung von Mikrospiegeln
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.10.2009
Erteilt am 05.04.2017
Vertretung
Schwanhäusser, Gernot · Stuttgart
Schwanhäusser, Gernot · Stuttgart
Ostertag & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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30.03.2017
Optische Abbildungsanordnung mit einer Piezoelektrischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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30.03.2017
Optische Korrekturanordnung, Projektionsobjektiv mit einer Solchen Optischen Korrekturanordnung sowie Mikrolithografische Apparatur mit einem Solchen Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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30.03.2017
Optisches System zur Feldabbildung Und/oder Pupillenabbildung
Optik & Fototechnik
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30.03.2017
Verfahren zum Betreiben einer Mikrolithographischen Projektionsvorrichtung und Beleuchtungssystem Solch einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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23.03.2017
Illumination optical unit for projection lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.09.2016
Anhängig
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22.03.2017
System zur Erkennung von Geladenen Partikeln und Inspektionssystem mit mehreren Teilstrahlen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 31.03.2011
Erteilt am 22.03.2017
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
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22.03.2017
Reflektierendes Optisches Element zur Euv-Lithografie und Verfahren zur Herstellung eines Reflektierenden Optischen Elements
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 05.12.2013
Erteilt am 22.03.2017
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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