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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
04.08.2016
Beweglich Gelagertes Bauteil einer Projektionsbelichtungsanlage sowie Vorrichtung und Verfahren zur Bewegungsbegrenzung hierfür
WO2016119977
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
03.08.2016
Optisches System einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
EP2580625
Optik & Fototechnik
03.08.2016
Mehrschichtiger Spiegel
EP3049836
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
28.07.2016
Verfahren zum Herstellen eines Reflektiven Optischen Elements, Reflektives Optisches Element und Verwendung eines Reflektiven Optischen Elements
WO2016116387
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
28.07.2016
Anordnung zur Halterung eines Bauteils in einer Lithographieanlage sowie Lithographieanlage
WO2016116375
Optik & Fototechnik
27.07.2016
Verfahren zur Messung einer Form einer Optischen Fläche
EP2478328
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
21.07.2016
Verfahren zum Herstellen eines Optischen Elements für ein Optisches System, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2016113117
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
21.07.2016
Arrangement for reducing contamination in a microlithographic projection exposure apparatus
WO2016113113
Optik & Fototechnik
30.06.2016
Strahlungsquellenmodul
WO2016102673
Optik & Fototechnik
30.06.2016
Optische Komponente
WO2016102671
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Projektionsbelichtungsvorrichtung mit Wellenfrontmessvorrichtung und Optischem Wellenfrontmanipulator
WO2016097048
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Komponente, Optisches System und Lithographieanlage
WO2016096373
Optik & Fototechnik
23.06.2016
Druckreduzierungseinrichtung, Vorrichtung zur Massenspektrometrischen Analyse eines Gases und Reinigungsverfahren
WO2016096233
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.06.2016
Anschlussanordnung für ein Lithographiesystem
WO2016091616
Optik & Fototechnik
09.06.2016
Optische Anordnung mit einem Wärmeleitenden Bauelement
WO2016086983
Optik & Fototechnik
09.06.2016
Verstellsystem-Bauelement, Baugruppe, Spiegelanordnung und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
WO2016087565
Optik & Fototechnik
09.06.2016
Optisches Element, Optische Anordnung und Herstellungsverfahren
WO2016087312
Optik & Fototechnik
09.06.2016
Spiegel für eine Lithographieanlage und Lithographieanlage
WO2016087119
Optik & Fototechnik
09.06.2016
Oberflächenkorrektur an Beschichteten Reflektiven Optischen Elementen
WO2016087092
Optik & Fototechnik
02.06.2016
Positions-Messeinrichtung und Verfahren zur Ermittlung von Positionen eines Messobjekts
WO2016083346
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
02.06.2016
Piezoelektrische Positionier-Vorrichtung und Positionier-Verfahren mittels einer Derartigen Piezoelektrischen Positionier-Vorrichtung
WO2016083345
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
26.05.2016
Optisches System und Verfahren zur Messung der Intensität Elektromagnetischer Strahlung in einem Optischen System
WO2016078983
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.05.2016
Illumination optical unit for illuminating an illumination field and projection exposure apparatus comprising such an illumination optical unit
WO2016078964
Optik & Fototechnik
26.05.2016
Optische Beleuchtungseinheit für Euv-Projektionslithografie
WO2016078819
Optik & Fototechnik
26.05.2016
Optisches Teilsystem für Projektionslithografie und Optische Beleuchtungseinheit für Projektionslithografie
WO2016078818
Optik & Fototechnik
19.05.2016
Verfahren zur Vorhersage von mindestens einem Beleuchtungsparameter zur Beurteilung einer Beleuchtungseinstellung
WO2016074930
Optik & Fototechnik
18.05.2016
Massenspektrometer, dessen Verwendung, sowie Verfahren zur Massenspektrometrischen Untersuchung eines Gasgemisches
EP3020063
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.05.2016
Vacuum system comprising purge gas system generating a vortex flow of the purge gas stream
WO2016071175
Optik & Fototechnik
11.05.2016
Austauschvorrichtung für ein Optisches Element
EP1922586
Optik & Fototechnik
11.05.2016
Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie damit
EP2533104
Optik & Fototechnik
04.05.2016
Gasfeldionenquelle mit Beschichteter Spitze
EP2263248
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.05.2016
Optisches Membranelement
EP2201426
Optik & Fototechnik
28.04.2016
Beleuchtungsoptik für die Euv-Projektionslithografie
WO2016062499
Optik & Fototechnik
28.04.2016
Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
WO2016062466
Optik & Fototechnik
21.04.2016
Optische Beleuchtungseinheit für ein Projektionsbelichtungssystem
WO2016058851
Optik & Fototechnik
21.04.2016
Radiation Source Module
WO2016058826
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.04.2016
Euv-Lithographiesystem und Betriebsverfahren dafür
WO2016055330
Optik & Fototechnik
14.04.2016
Vakuum-Lineardurchführung und Vakuum-System damit
WO2016055272
Optik & Fototechnik
13.04.2016
Optisches System
EP2541324
Optik & Fototechnik
07.04.2016
Spiegelanordnung und Verfahren zum Abführen eines Wärmeflusses aus der Spiegelanordnung
WO2016050411
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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