Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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03.10.2013
Measuring device for measuring an illumination property
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.03.2013
Anhängig
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26.09.2013
Optische Beleuchtungseinheit für Euv-Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.03.2013
Anhängig
Vertretung
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26.09.2013
Measuring system for measuring an imaging quality of an euv lens
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.03.2013
Anhängig
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19.09.2013
Illumination optical unit for a projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2013
Anhängig
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19.09.2013
Method for adjusting an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.03.2013
Anhängig
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11.09.2013
Beleuchtungssystem einer mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.10.2007
Erteilt am 11.09.2013
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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29.08.2013
Method and apparatus for compensating at least one defect of an optical system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.02.2012
Anhängig
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29.08.2013
Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsvorrichtung für Mikrolithografie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.02.2013
Anhängig
Vertretung
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29.08.2013
Method for optimizing a protective layer system for an optical element, optical element and optical system for euv lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.02.2013
Anhängig
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29.08.2013
Lithografievorrichtung mit Wirbelstrombremse
Optik & Fototechnik
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22.08.2013
Device for the magnetic-field-compensated positioning of a component
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2013
Anhängig
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21.08.2013
Optisches Fourier-System, Beleuchtungssystem und Belichtungssystem der Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.04.2009
Erteilt am 21.08.2013
Vertretung
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15.08.2013
Projektionsobjektiv für Euv-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit einem Folienelement
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 08.02.2013
Anhängig
Vertretung
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08.08.2013
Verfahren zum Betrieb einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung und Projektionsobjektiv einer Solchen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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08.08.2013
Projektionsbelichtungsvorrichtung mit einem Messsystem zur Messung eines Optischen Elements
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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07.08.2013
Spiegel, Projektionsobjektiv mit Derartigem Spiegel, und Projektionsbelichtungsvorrichtung für Mikrolithografie mit einem Derartigen Projektionsobjektiv
Elektrische Energietechnik
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01.08.2013
Optische Anordnung für die Euv-Lithografie
Optik & Fototechnik
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01.08.2013
Anordnung zur Lagesicherung eines Bauteils Innerhalb eines Gehäuses
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2013
Anhängig
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25.07.2013
Strahlführungssystem zur Fokussierenden Führung von Strahlung einer Hochleistungs-Laserlichtquelle Hin zu einem Target sowie Lpp-Röntgenstrahlquelle mit einer Laserlichtquelle und einem Derartigen Strahlführungssystem
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 03.01.2013
Anhängig
Vertretung
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24.07.2013
Optisches Projektionssystem für Mikrolithopgraphie, Verfahren zur Herstellung eines Geräts und Verfahren für den Entwurf einer Optischen Oberfläche
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.09.2006
Erteilt am 24.07.2013
Vertretung
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18.07.2013
Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.12.2012
Anhängig
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18.07.2013
Polarisationsbeeinflussende Optische Anordnung, insbesondere in einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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10.07.2013
Teilchenoptische Komponente
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.09.2006
Erteilt am 10.07.2013
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
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03.07.2013
Verfahren und Vorrichtung zum Strukturieren eines strahlungsempfindlichen Materials
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.01.2009
Anhängig
Vertretung
Zeuner Summerer Stütz · München
Zeuner & Summerer · München
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26.06.2013
Katadioptrisches Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.01.2005
Anhängig
Vertretung
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20.06.2013
Optische Anordnung und Optisches Element für die Immersionslithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.11.2012
Anhängig
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19.06.2013
Aktuator und Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 07.07.2009
Erteilt am 19.06.2013
Vertretung
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19.06.2013
Beleuchtungssystem zum Beleuchten einer Maske in einer mikrolithographischen Belichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.12.2008
Erteilt am 19.06.2013
Vertretung
Schwanhäusser, Gernot · Stuttgart
Schwanhäusser, Gernot · Stuttgart
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12.06.2013
Beleuchtungsoptik für eine Mikrolithografie-Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.07.2007
Erteilt am 12.06.2013
Vertretung
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05.06.2013
Belichtungsvorrichtung für Mikrolithografische Projektion und Verfahren zur Messung eines Parameters einer Optischen Fläche Darin
Optik & Fototechnik
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30.05.2013
Correcting an Intensity Of an Illumination Beam
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.11.2012
Anhängig
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30.05.2013
Beleuchtungs- und Verschiebungsvorrichtung für eine Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2012
Anhängig
Vertretung
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29.05.2013
Projektionsobjektiv mit Spiegelelementen mit Reflektierenden Beschichtungen
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 20.08.2007
Erteilt am 29.05.2013
Vertretung
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23.05.2013
Lichtmodulator und Beleuchtungssystem einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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23.05.2013
Mirror system comprising at least one mirror for use for guiding illumination and imaging light in euv projection lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2012
Anhängig
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23.05.2013
Anordnung eines Spiegels
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2012
Anhängig
Vertretung
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23.05.2013
Projection lens of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2012
Anhängig
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08.05.2013
Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektions-Belichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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02.05.2013
Optical system in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.10.2012
Anhängig
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01.05.2013
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11