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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
13.02.2014
Microlithographic exposure method, and microlithographic projection exposure apparatus
WO2014023619
Optik & Fototechnik
06.02.2014
Imaging optical unit for a projection exposure apparatus
WO2014019617
Optik & Fototechnik
06.02.2014
Mask inspection method and mask inspection system for euv-masks
WO2014019870
Optik & Fototechnik
06.02.2014
Mirror arrangement for a lithography apparatus and method for producing the same
WO2014020112
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
30.01.2014
Euv Light Source
WO2014016139
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.01.2014
Illumination Optical Unit
WO2014012929
Optik & Fototechnik
23.01.2014
Verfahren zum Einstellen eines Beleuchtungssettings
WO2014012912
Optik & Fototechnik
23.01.2014
Method for operating a microlithographic projection exposure apparatus
WO2014012660
Optik & Fototechnik
23.01.2014
Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Mikrolithografie mit einem Optischen Distanzmesssystem
WO2014012641
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
23.01.2014
System correction from long timescales
WO2014012643
Optik & Fototechnik
16.01.2014
Lithografievorrichtung mit einem Facettenspiegel
WO2014009120
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
16.01.2014
Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Variation einer Optischen Wellenfront bei einer Katoptrischen Linse einer Solchen Vorrichtung
WO2014008994
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
03.01.2014
Method for designing an illumination optics and illumination optics
WO2014000763
Optik & Fototechnik
03.01.2014
Projection exposure apparatus for projection lithography
WO2014000970
Optik & Fototechnik
03.01.2014
Method and cooling system for cooling an optical element for euv applications
WO2014001188
Optik & Fototechnik
27.12.2013
Augenchirurgie-Mikroskop mit Einrichtung zur Ametropie-Messung
WO2013189591
Medizintechnik & Gesundheit Optik & Fototechnik
19.12.2013
Maskless lithographic apparatus and method for generating an exposure pattern
WO2013185822
Optik & Fototechnik
19.12.2013
Projection exposure apparatus and method for controlling a projection exposure apparatus
WO2013185919
Optik & Fototechnik
05.12.2013
Optical imaging arrangement with multiple metrology support units
WO2013178277
Optik & Fototechnik
05.12.2013
Illumination optical unit for projection lithography
WO2013178432
Optik & Fototechnik
05.12.2013
Lithography apparatus and method for producing a mirror arrangement
WO2013178695
Optik & Fototechnik
04.12.2013
Vergrössernde Optische Bildgebungseinheit sowie Metrologiesystem mit einer Derartigen Optischen Bildgebungseinheit
EP2668536
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Reticle, reticle-chuck, reticle positioning system and optical system
WO2013174398
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Facet Mirror
WO2013174644
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Imaging optical system and projection exposure installation
WO2013174686
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Adjustment device and mask inspection device with such an adjustment device
WO2013174680
Optik & Fototechnik
21.11.2013
Illumination optical unit for euv projection lithography
WO2013171071
Optik & Fototechnik
20.11.2013
Beleuchtungssystem zum Beleuchten einer Maske in einer mikrolithographischen Belichtungsvorrichtung
EP2388650
Optik & Fototechnik
14.11.2013
Assembly for a projection exposure apparatus for euv projection lithography
WO2013167409
Optik & Fototechnik
07.11.2013
Illumination optical unit and optical system for euv projection lithography
WO2013164207
Optik & Fototechnik
06.11.2013
Beleuchtungssystem für die Mikro-Lithographie, Projektionsbelichtungsanlage mit einem Derartigen Beleuchtungssystem
EP1984789
Optik & Fototechnik
24.10.2013
A microlithographic apparatus and a method of changing an optical wavefront in an objective of such an apparatus
WO2013156041
Optik & Fototechnik
24.10.2013
Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, and method for adjusting an optical system
WO2013156251
Optik & Fototechnik
24.10.2013
Microlithographic apparatus and method of changing an optical wavefront in such an apparatus
WO2013156145
Optik & Fototechnik
24.10.2013
Optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2013156335
Optik & Fototechnik
17.10.2013
Vorrichtung zur Beleuchtungsintensitätskorrektur zur Vordefinition einer Beleuchtungsintensität über einem Beleuchtungsfeld einer Lithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
WO2013152951
Optik & Fototechnik
16.10.2013
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP2649493
Optik & Fototechnik
16.10.2013
Optisches Element und Verfahren
EP2650730
Optik & Fototechnik
03.10.2013
Apparatus and method for compensating a defect of a channel of a microlithographic projection exposure system
WO2013143594
Optik & Fototechnik
03.10.2013
Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2013143803
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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