Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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22.06.2023
Elektronenmikroskop zur Untersuchung einer Probe
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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22.06.2023
Vorrichtung und Verfahren zur Vermeidung einer Degradation einer Optisch Genutzten Oberfläche eines Spiegelmoduls, Projektionssystem, Beleuchtungssystem und Projektionsbelichtungsanlage
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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21.06.2023
Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung eines Substrates mit einem Fokussierten Teilchenstrahl
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.04.2012
Anhängig
Vertretung
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15.06.2023
Fassung für eine Linse, Anordnung, Lithographieanlage sowie Verfahren
Optik & Fototechnik
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14.06.2023
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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08.06.2023
Verfahren, Optisches System, Testvorrichtung und Anordnung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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08.06.2023
Verfahren zum Erzeugen einer Lokalen Dickenänderung einer Beschichtung, Spiegel und Euv-Lithographiesystem
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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07.06.2023
Optische Anordnung zur Erhöhung der Bandbreite
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.03.2014
Erteilt am 07.06.2023
Vertretung
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07.06.2023
Optische Projektionseinheit für die Mikrolithographie und Verfahren zur Herstellung einer Strukturierten Komponente
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.06.2020
Erteilt am 07.06.2023
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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07.06.2023
Verfahren zur Teilchenstrahlinduzierten Verarbeitung eines Defekts einer Mikrolithographischen Photomaske
Optik & Fototechnik
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25.05.2023
Verfahren zum Abscheiden einer Deckschicht, Euv-Lithographiesystem und Optisches Element
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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25.05.2023
Optisches System, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren
Optik & Fototechnik
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24.05.2023
Verfahren zum Montieren eines Facettenspiegels
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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19.05.2023
Verfahren zur Messung einer Probe und Mikroskop mit dem Verfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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17.05.2023
Optisches Beleuchtungssystem zur Führung von Euv-Strahlung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 05.02.2021
Anhängig
Vertretung
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11.05.2023
Optisches System, Lithographievorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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11.05.2023
Optisches System, Lithographieanlage und Verfahren
Optik & Fototechnik
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10.05.2023
Euv-Kollektor
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 14.06.2021
Anhängig
Vertretung
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03.05.2023
Optisches Element für den Vuv-Wellenlängenbereich, Optische Anordnung und Verfahren zum Herstellen eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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03.05.2023
Verfahren zum Ermitteln eines Bildes eines Objekts
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 10.06.2021
Anhängig
Vertretung
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26.04.2023
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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26.04.2023
Schutz von Optischen Materialien von Optischen Komponenten vor Strahlungsabbau
Optik & Fototechnik
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20.04.2023
Verfahren zur Messung einer Probe und Mikroskop mit dem Verfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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20.04.2023
Spiegeleinheit mit Kippbarem Spiegelelement
Optik & Fototechnik
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05.04.2023
Dämpfungsanordnung zur Schwingungsdämpfung eines Elements in einem Optischen System
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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29.03.2023
Verfahren zur Wartung einer Projektionsbelichtungsanlage, Servicemodul und Anordnung für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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23.03.2023
Euv-Lithographiesystem mit einem Gasbindenden Bauteil in Form einer Folie
Optik & Fototechnik
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22.03.2023
Optisches Element, Euv-Lithographiesystem und Verfahren zum Bilden von Nanopartikeln
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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22.03.2023
Verfahren zum Herstellen eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.05.2021
Anhängig
Vertretung
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15.03.2023
Verfahren zum Herstellen von Reflektiven Optischen Elementen für den Euv-Wellenlängenbereich sowie Reflektive Optische Elemente für den Euv-Wellenlängenbereich
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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01.03.2023
Verfahren zum Betreiben einer Euv-Lithographievorrichtung und Euv-Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
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16.02.2023
Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Auslegung einer Klebstoffschicht
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Optik & Fototechnik
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16.02.2023
Euv-Kollektor zur Verwendung in einer Euv-Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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16.02.2023
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Verbindungselement
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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15.02.2023
Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen eines Bauteilinnenraums
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
Optik & Fototechnik
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09.02.2023
Temperaturmessvorrichtung, Lithographieanlage und Verfahren zum Messen einer Temperatur
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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01.02.2023
Vorrichtung zur Erfassung einer Temperatur, Anlage zur Herstellung eines Optischen Elementes und Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elementes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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25.01.2023
Steuerungssystem, Optisches System und Verfahren
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.02.2020
Erteilt am 25.01.2023
Vertretung
HKW Intellectual Property PartG mbB · München
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25.01.2023
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Klebeverbindung zwischen einer Ersten Komponente und mindestens einer Zweiten Komponente für die Mikrolithographie
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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18.01.2023
Verfahren zur Querschnittsbildgebung von Inspektionsvolumina in einem Wafer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.03.2021
Anhängig
Vertretung
Tesch-Biedermann, Carmen · München
Carl Zeiss SMT GmbH · Oberkochen
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11