Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
1.949 gesamt| Patent | |||
|---|---|---|---|
|
08.08.2019
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
07.08.2019
Bildgebungsoptik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
01.08.2019
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
01.08.2019
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
01.08.2019
Abbildende Optik für die Euv-Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
25.07.2019
Optisches Element zur Strahlführung von Bildgebungslicht in der Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
18.07.2019
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit Verbesserter Komponentenjustage und Justageverfahren
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
03.07.2019
Steuereinrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 22.08.2017
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
26.06.2019
Wellenfrontkorrekturelement zur Verwendung in einem Optischen System
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 10.03.2016
Erteilt am 26.06.2019
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
26.06.2019
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Eine Beleuchtungsoptik (4) für die Projektionslithographie zur Ausleuchtung eines Objektfeldes (5), in dem ein abzubildendes Objekt (7) anordenbar ist, mit Beleuchtungslicht, hat einen Feldfacettenspiegel (20) mit einer Mehrzahl von Feldfacetten. Ein Pupillenfacettenspiegel (21) der Beleuchtungsoptik (4) hat eine Mehrzahl von Pupillenfacetten. Die Pupillenfacetten dienen zur Abbildung der jeweils den Pupillenfacetten individuell zugeordneten Feldfacetten in das Objektfeld (5). Ein Einzelspiegelarray (17) der Beleuchtungsoptik (4) hat individuell angesteuert verkippbare Einzelspiegel. Das Einzelspiegelarray (17) ist in einem Beleuchtungslicht-Strahlengang vor dem Feldfacettenspiegel (20) angeordnet. Es resultiert eine flexibel gestaltbare und an Vorgabewerte gut anpassbare Beleuchtung durch die Beleuchtungsoptik. |
|||
|
26.06.2019
Optische Anordnung in einer Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Euv-Lithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 24.09.2010
Erteilt am 26.06.2019
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
26.06.2019
Optische Spiegel-Baugruppe zur Strahlführung sowie Spiegel-Temperiervorrichtung mit einer derartigen Spiegel-Baugruppe
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Eine optische Spiegel-Baugruppe (2) zur Strahlführung hat einen Spiegel-Grundkörper (6), der eine Reflexionsfläche (5) trägt. Der Spiegel-Grundkörper (6) hat unterhalb der Reflexionsfläche (5) zumindest abschnittsweise einen Festkörperschaumbereich (9, 10). Dieser steht mit der Reflexionsfläche (5) in wärmeleitender Verbindung. Der Festkörperschaumbereich (9, 10) ist über mindestens einen Fluidanschluss (14 bis 17) mit einer Fluidquelle (4) verbindbar. Letztere steht über mindestens einen Fluidkanal (27, 29; 32, 33; 36, 37) in Fluidverbindung mit dem Festkörperschaumbereich (9, 10) zur Erzeugung eines Fluidstroms mindestens eines Wärmeträgerfluids durch den Festkörperschaumbereich (9, 10). Der Festkörperschaumbereich (9, 10) ist in mindestens zwei Festkörperschaum-Unterbereiche (9, 10) unterteilt. Zwischen diesen ist ein Grenzbereich (11) zur Minimierung oder Verhinderung eines Wärmeleitungs-Übergangs zwischen benachbarten Festkörperschaum-Unterbereichen (9, 10) angeordnet. Es resultiert eine Spiegel-Baugruppe, bei der ein Temperaturniveau einer Reflexionsfläche bzw. des Spiegel-Grundkörpers und/oder ein Temperaturgradient, der über die Reflexionsfläche bzw. des Spiegel-Grundkörpers vorhanden ist, an anspruchsvolle Vorgaben angepasst werden kann. |
|||
|
12.06.2019
Spiegelanordnung für die Lithografische Belichtungsvorrichtung und Optisches System mit der Spiegelanordnung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 05.07.2016
Erteilt am 12.06.2019
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.05.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Kalibrierung einer Diffraktiven Messstruktur
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.05.2019
Anordnung für eine Euv-Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
31.05.2019
Verfahren zur Qualifizierung einer Maske für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
29.05.2019
Lithographische Vorrichtung, Vorrichtung zur Lithographischen Projektion und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 16.06.2017
Anhängig
Vertretung
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
23.05.2019
Pupillenfacettenspiegel, Optisches System und Beleuchtungsoptik für eine Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
23.05.2019
Beleuchtungsintensitäts-Korrekturvorrichtung zur Vorgabe einer Beleuchtungsintensität über ein Beleuchtungsfeld einer Lithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
23.05.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Maskeninspektion
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 30.10.2018
Anhängig
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.05.2019
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.09.2004
Erteilt am 22.05.2019
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.05.2019
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.09.2004
Erteilt am 22.05.2019
Vertretung
Diehl & Partner GbR · München
Diehl & Partner · München
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.05.2019
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.09.2004
Erteilt am 22.05.2019
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.05.2019
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.09.2004
Erteilt am 22.05.2019
Vertretung
Diehl & Partner · München
Diehl & Partner GbR · München
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.05.2019
Verfahren zur Einstellung einer Optischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 11.07.2017
Erteilt am 22.05.2019
Vertretung
HKW Intellectual Property PartG mbB · München
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
22.05.2019
Optische Partikelsysteme und Anordnungen und optische Partikelkomponenten für solche Systeme und Anordnungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 07.09.2004
Erteilt am 22.05.2019
Vertretung
Diehl & Partner GbR · München
Diehl & Partner · München
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
15.05.2019
Spiegel
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 30.08.2013
Erteilt am 15.05.2019
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
08.05.2019
Vorrichtung und Verfahren zur Untersuchung eines Objekts
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
|
|||
|
Status
Angemeldet am 25.05.2012
Erteilt am 08.05.2019
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
08.05.2019
Euv-Lichtquelle zur Erzeugung eines Verwendbaren Ausgangsstrahls für eine Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 22.10.2013
Erteilt am 08.05.2019
Vertretung
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
02.05.2019
Verfahren zur Wiederherstellung eines Beleuchtungssystems für ein Euv-Gerät und Detektormodul
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
02.05.2019
Verfahren zur Temperaturregelung eines Bauteils
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
17.04.2019
Abbildungsvorrichtung und Abbildungsverfahren für eine Abbildungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
10.04.2019
Optisches Reflexionselement für Euv-Lithographie
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 13.12.2010
Erteilt am 10.04.2019
Vertretung
Werner, Anne-Estelle · Münster
Werner & ten Brink · Münster
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.04.2019
Verfahren und Anordnung zur Analyse der Wellenfrontwirkung eines Optischen Systems
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.04.2019
Verfahren zur Bestimmung von Eigenschaften einer Euv-Quelle
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.04.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Optischen Elements
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
04.04.2019
Kompensationsoptik für ein Interferometrisches Messsystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
03.04.2019
Regelvorrichtung zur Regelung einer flächigen Anordnung individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Status
Angemeldet am 06.02.2008
Erteilt am 03.04.2019
Vertretung
Schwanhäusser, Gernot · Stuttgart
Ostertag & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
28.03.2019
Wafer-Halteeinrichtung sowie Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
|
28.03.2019
Verfahren zur Charakterisierung mindestens einer Optischen Komponente einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
|
|||
|
Zusammenfassung
Zusammenfassung wird geladen … |
|||
Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-Profil