Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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28.03.2019
Bildgebungsoptik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
Optik & Fototechnik
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21.03.2019
Verfahren zur Herstellung eines Spiegels als Optische Komponente für ein Optisches System einer Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Projektionslithografie
Optik & Fototechnik
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21.03.2019
Verfahren zum Bearbeiten eines Werkstücks bei der Herstellung eines Optischen Elements
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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21.03.2019
Optische Anordnung und Verfahren zur Reparatur der Optischen Anordnung nach einer Schockbelastung
Optik & Fototechnik
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21.03.2019
Verfahren zum Bearbeiten eines Werkstücks bei der Herstellung eines Optischen Elements
Kunststoff- & Polymertechnik
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Status
Angemeldet am 03.07.2018
Anhängig
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20.03.2019
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsvorrichtung und Verfahren zur Einstellung einer Bestrahlungsverteilung in Solch einem System
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.05.2016
Erteilt am 20.03.2019
Vertretung
Ostertag & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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14.03.2019
Optisches System, Optische Anordnung und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.08.2018
Anhängig
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14.03.2019
Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 15.08.2018
Anhängig
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27.02.2019
Facettenspiegel für die Euv-Projektionslithographie sowie Beleuchtungsoptik mit einem Derartigen Facettenspiegel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.04.2016
Erteilt am 27.02.2019
Vertretung
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27.02.2019
Spiegel für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 25.06.2014
Erteilt am 27.02.2019
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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20.02.2019
Effiziente Dunkelstromsubtraktion in einem Bildsensor
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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14.02.2019
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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13.02.2019
Euv-Kollektor zur Verwendung in einer Euv-Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2017
Anhängig
Vertretung
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07.02.2019
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen von durch ein Projektionsobjektiv Verursachten Wellenfrontaberrationen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.07.2018
Anhängig
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07.02.2019
Optische Anordnung für Euv-Strahlung mit einer Abschirmung zum Schutz vor der Ätzwirkung eines Plasmas
Optik & Fototechnik
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07.02.2019
Reflektives Optisches Element für die Euv-Lithographie und Verfahren zur Anpassung einer Geometrie einer Komponente
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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07.02.2019
Optisches System für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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06.02.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Ortsaufgelösten Bestimmung der Phase und Amplitude des Elektromagnetischen Feldes in der Bildebene einer Abbildung eines Objektes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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31.01.2019
Optisches Element zur Strahlführung von Abbildungslicht in der Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
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31.01.2019
Gewichtskraftkompensationseinrichtung
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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24.01.2019
Mems device
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Status
Angemeldet am 12.07.2018
Anhängig
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24.01.2019
Optisches System, Lithographieanlage, Verfahren zum Herstellen eines Optischen Systems sowie Verfahren zum Austauschen eines Moduls
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.07.2018
Anhängig
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17.01.2019
Verfahren und Vorrichtung zum Untersuchen einer Messspitze eines Rastersondenmikroskops
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 02.07.2018
Anhängig
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09.01.2019
Projektionsbelichtungsvorrichtung und Verfahren zur Messung einer Projektionslinse
Optik & Fototechnik
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03.01.2019
Verfahren zum Justieren eines Beluchtungssystems für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.06.2018
Anhängig
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02.01.2019
Beleuchtungssystem für die Euv-Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2014
Erteilt am 02.01.2019
Vertretung
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02.01.2019
Katadioptrisches Abbildungssystem für die Euv-Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 18.11.2015
Erteilt am 02.01.2019
Vertretung
Zusammenfassung
Imaging optical unit (7) for EUV projection lithography and comprising a plurality of mirrors (M1-M4) imaging an object field (4) onto an image field (8) and a circular aperture stop (18) tilted by at least 1° with respect to a plane (17) that is perpendicular to the optical axis (oA, xz-axis). The difference, averaged over the whole field, between the numerical aperture NA x measured in the xz-plane and the numerical aperture NA y measured in the yz-plane is smaller than 0.003. This imaging optical unit (7) achieves an homogenization of the image-side numerical aperture while keeping a high resolution in the image plane independently of the orientation of the incidence plane in the image field (8). |
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02.01.2019
Projektionsbelichtungsvorrichtung mit mindestens einem Manipulator
Optik & Fototechnik
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26.12.2018
Spiegel für Euv-Lithografie
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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19.12.2018
Facettenspiegel
Optik & Fototechnik
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13.12.2018
Vorrichtung zur Ausrichtung eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2018
Anhängig
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06.12.2018
Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsvorrichtung für Mikrolithografie
Optik & Fototechnik
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06.12.2018
Verfahren zur Massenspektrometrischen Untersuchung eines Gases und Massenspektrometer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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22.11.2018
Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionslinse mit Einstellung der Pupillenübertragung
Optik & Fototechnik
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07.11.2018
Verbindungsanordnung zum Kraftschlüssigen Verbinden von Keramikbauteilen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.09.2014
Erteilt am 07.11.2018
Vertretung
HKW Intellectual Property PartG mbB · München
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01.11.2018
Verfahren zur Reinigung von Optischen Elementen für den Ultravioletten Wellenlängenbereich
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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18.10.2018
Wellenfrontkorrekturelement zur Verwendung in einem Optischen System
Optik & Fototechnik
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11.10.2018
Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren
Optik & Fototechnik
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10.10.2018
Spiegel-Einrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2015
Erteilt am 10.10.2018
Vertretung
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10.10.2018
Spiegel, insbesondere Kollektorspiegel für Mikrolithografie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Angemeldet am 26.11.2015
Erteilt am 10.10.2018
Vertretung
Witte, Weller & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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