Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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18.09.2014
Illumination optical unit for projection lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.03.2014
Anhängig
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18.09.2014
Magnifying imaging optical unit and euv mask inspection system with such an imaging optical unit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.03.2014
Anhängig
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18.09.2014
Optical waveguide for guiding illumination light
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.03.2014
Anhängig
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18.09.2014
Projection exposure apparatus with a highly flexible manipulator
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.03.2014
Anhängig
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18.09.2014
Optical device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.03.2014
Anhängig
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18.09.2014
Illumination optical unit for a mask inspection system and mask inspection system with such an illumination optical unit
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2014
Anhängig
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18.09.2014
Position sensor, sensor arrangement and lithography apparatus comprising position sensor
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.03.2014
Anhängig
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18.09.2014
Anordnung zur Betätigung mindestens eines Elements in einem Optischen System
Optik & Fototechnik
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18.09.2014
Measuring an Optical Symmetry Property On A Projection Exposure Apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.03.2014
Anhängig
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18.09.2014
Arrangement for the thermal actuation of a mirror, in particular in a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.03.2014
Anhängig
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12.09.2014
Kollektorspiegel für eine Euv-Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
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12.09.2014
Method for illuminating an image field
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2014
Anhängig
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04.09.2014
Optical assembly for rotating polarization
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.02.2014
Anhängig
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04.09.2014
Modellbasierte Steuerung einer Optischen Bildgebungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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28.08.2014
Illumination system for an euv lithography device and facet mirror therefor
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2014
Anhängig
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28.08.2014
Euv light source for generating a used output beam for a projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.02.2014
Anhängig
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28.08.2014
Optical Module
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.02.2014
Anhängig
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13.08.2014
Reflektierendes Optisches Element für den Euv-Wellenlängebereich, Verfahren zur Herstellung und Korrektur eines Solchen Elements, Projektionslinse für die Mikrolithographie enthaltend ein Solches Element, und Projektionsbeleuchtungsgerät enthaltend eine Solche Projektionslinse
Kunststoff- & Polymertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.08.2012
Anhängig
Vertretung
Carl Zeiss SMT GmbH · Oberkochen
Carl Zeiss AG - Patentabteilung · Oberkochen
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07.08.2014
Microlithographic projection exposure apparatus and method of operating same
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.02.2013
Anhängig
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06.08.2014
System zur Messung der Bildqualität eines Optischen Bildgebungssystems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.06.2005
Erteilt am 06.08.2014
Vertretung
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31.07.2014
Method for determining the phase angle and/or the thickness of a contamination layer at an optical element and euv lithography apparatus
Verfahrens- & Trenntechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 19.11.2013
Anhängig
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31.07.2014
Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.01.2014
Anhängig
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31.07.2014
Polarization measurement system for a projection exposure apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2014
Anhängig
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24.07.2014
Method of lithographically transferring a pattern on a light sensitive surface and illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2013
Anhängig
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17.07.2014
Polarization measuring device, lithography apparatus, measuring arrangement, and method for polarization measurement
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.01.2014
Anhängig
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19.06.2014
Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.12.2013
Anhängig
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05.06.2014
Kühlsystem für mindestens eine Systemkomponente eines Optischen Systems für Euv-Anwendungen sowie Derartige Systemkomponenten und Optisches System
Optik & Fototechnik
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22.05.2014
Verfahren zur Zuweisung einer Pupillenfacette eines Pupillenfacettenspiegels einer Optischen Beleuchtungseinheit einer Projektionsbelichtungsvorrichtung zu einer Feldfacette eines Feldfacettenspiegels der Optischen Beleuchtungseinheit
Optik & Fototechnik
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22.05.2014
Optische Beleuchtungseinheit für Euv-Projektionslithografie
Optik & Fototechnik
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15.05.2014
Euv-Kollektor
Optik & Fototechnik
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14.05.2014
Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsinstallation für die Mikrolithographie mit einem Optischen Abbildungssystem Dieses Typs
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.10.2008
Erteilt am 14.05.2014
Vertretung
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08.05.2014
Druckschwankungen in einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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01.05.2014
Beleuchtungssystem einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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01.05.2014
Projection exposure system for euv lithography and method for operating the projection exposure system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.10.2013
Anhängig
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17.04.2014
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.10.2012
Anhängig
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17.04.2014
Verfahren zum Betreiben einer Mikrolithographischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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03.04.2014
Optical system for a microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2013
Anhängig
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19.03.2014
Teilchenstrahlgerät
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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13.03.2014
Blocking Element For Protecting Optical Elements in Projection Exposure Apparatuses
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.09.2013
Anhängig
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26.02.2014
Wafer-Chuck für die Euv-Lithographie
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.12.2009
Erteilt am 26.02.2014
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11