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KLA Corporation Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495
Patente
2000–2019
Anmeldejahre
18
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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495 gesamt
Patent
27.12.2001
Overlay Alignment Mark Design
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.11.2001
Ultra-broadband uv microscope imaging system with wide range zoom capability
Optik & Fototechnik
15.11.2001
Method and system for detecting metal contamination on a semiconductor wafer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.11.2001
System and methods for classifying anomalies of sample surfaces
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
08.11.2001
Methods and systems for lithography process control
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
01.11.2001
Apparatus and methods for detecting killer particles during chemical mechanical polishing
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16.08.2001
In-Situ-Sonde zur Optimierung des Oberflächenpotentials bei Elektronenstrahlkontrolle und Elektronenstrahlmetrologie
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.03.2001
Selbsträumende Optische Messvorrichtung sowie Verfahren zu deren Verwendung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
15.03.2001
Rasterelektronenmikroskop mit einer Elektrode zur Verhinderung der Elektrostatischen Aufladung Während des Abrasterns der Probe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.02.2001
Detection of film thickness through induced acoustic pulse-echos
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
15.02.2001
Kalibrierung eines Rasterelektronenmikroskops
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.11.2000
System for sensing a sample
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16.11.2000
System for non-destructive measurement of samples
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
02.11.2000
Selbstkalibrierendes System zum Analysieren von Oberflächeneigenschaften
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
17.08.2000
System for measuring polarimetric spectrum and other properties of a sample
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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