Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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04.10.2018
Optische Anordnung zur Lenkung eines Ausgangsstrahls eines Freien Elektronenlasers
Optik & Fototechnik
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04.10.2018
Optisches System sowie Verfahren
Optik & Fototechnik
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04.10.2018
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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27.09.2018
Metrologie-Target
Optik & Fototechnik
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27.09.2018
Verfahren zum Bestimmen eines Materialabtrags und Vorrichtung zur Strahlbearbeitung eines Werkstücks
Kunststoff- & Polymertechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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26.09.2018
Ionisierungsvorrichtung und Massenspektrometrievorrichtung damit
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.12.2015
Erteilt am 26.09.2018
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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13.09.2018
Projektionssystem für eine Lithographieanlage sowie Verfahren zum Betreiben einer Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.02.2018
Anhängig
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13.09.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Analyse einer Fehlerhaften Position einer Photolithografischen Maske
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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13.09.2018
Spiegel mit einer Piezoelektrisch Aktiven Schicht
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.02.2018
Anhängig
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13.09.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung einer Reparaturform zur Verarbeitung eines Defekts einer Fotolithografischen Maske
Optik & Fototechnik
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12.09.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung eines durch wenigstens einen Lithographieschritt Strukturierten Wafers
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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07.09.2018
Messvorrichtung zur Vermessung eines Wellenfrontfehlers eines Abbildenden Optischen Systems
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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05.09.2018
Projektionslinse, Projektionsbelichtungsvorrichtung und Projektionsbelichtungsverfahren für Euv-Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.09.2015
Erteilt am 05.09.2018
Vertretung
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30.08.2018
Katadioptrisches Objektiv und Optisches System mit einem Solchen Objektiv
Optik & Fototechnik
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30.08.2018
Lithographieanlage und Verfahren
Optik & Fototechnik
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30.08.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Umwandlung von Messdaten einer Photolithografischen Maske für den Euv-Bereich von Ersten Umgebungen in Zweite Umgebungen
Optik & Fototechnik
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29.08.2018
Verfahren und Einrichtungen zur Ansteuerung von Mikrospiegeln
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.10.2009
Erteilt am 29.08.2018
Vertretung
Ostertag & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
Ostertag & Partner Patentanwälte · Stuttgart
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23.08.2018
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit Verbessertem Wärmeübergang
Optik & Fototechnik
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22.08.2018
Euv-Lichtquelle für eine Beleuchtungseinrichtung einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 27.02.2015
Erteilt am 22.08.2018
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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09.08.2018
Anlage und Verfahren zum Betreiben einer Anlage
Optik & Fototechnik
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08.08.2018
Verfahren zur Herstellung eines Reflektierenden Optischen Elements für Euv Lithographie
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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01.08.2018
Vorrichtung zur massenselektiven Bestimmung eines Ions
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
The invention relates to a device for mass selective determination of at least one ion or of a plurality of ions. The device according to the invention is used for example in a measuring apparatus having an ion trap (1404). The ion trap (1404) has a ring electrode (1401) having a first opening. A first electrode (1402) is arranged at the first opening. Furthermore, an amplifier (1408) for providing a radio-frequency storage signal for the ion trap (1404) and a first transformer (1411) are provided, said first transformer being connected to the amplifier (1408) and the first electrode (1402) in such a way that the radio-frequency storage signal is coupled into the first electrode (1402) via the first transformer (1411). |
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26.07.2018
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage oder ein Inspektionssystem
Optik & Fototechnik
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26.07.2018
Optische Anordnung, insbesondere Lithografiesystem, mit einer Transportsicherung
Optik & Fototechnik
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26.07.2018
Abbildende Optik zur Führung von Euv-Abbildungslicht sowie Justageanordnung für eine Derartige Abbildende Optik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2018
Anhängig
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26.07.2018
Optische Anordnung, insbesondere Lithographiesystem
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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25.07.2018
Optische Anordnung, insbesondere in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Euv-Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.08.2017
Anhängig
Vertretung
Carl Zeiss SMT GmbH · Oberkochen
Carl Zeiss AG - Patentabteilung · Oberkochen
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04.07.2018
Reflektierendes Optisches Element und Optisches System für die Euv-Lithografie
Optik & Fototechnik
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28.06.2018
Tauchspulenaktuator
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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28.06.2018
Steuerungsvorrichtung zum Ansteuern einer Aktuatoreinheit einer Lithographieanlage, Lithographieanlage mit einer Steuerungsvorrichtung und Verfahren zum Betreiben der Steuerungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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28.06.2018
Verfahren zur Positionierung eines Bauelements eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
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28.06.2018
Anpassung einer Trajektorie
Optik & Fototechnik
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28.06.2018
Lithografiesystem und -Verfahren
Optik & Fototechnik
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20.06.2018
Elektronische Sehhilfe und Elektronisches Sehhilfeverfahren
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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20.06.2018
Verfahren zur Bestimmung von Restfehlern
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.10.2007
Erteilt am 20.06.2018
Vertretung
Dittmann, Olaf · Oberkochen
Muhsfeldt, Willi · Jena
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14.06.2018
Intensitätsanpassungsfilter für die Euv - Mikrolithographie und Verfahren zur Herstellung Desselben sowie Beleuchtungssystem mit einem Entsprechenden Filter
Optik & Fototechnik
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14.06.2018
Katadioptrisches Projektionsobjektiv und Verfahren zu Seiner Herstellung
Optik & Fototechnik
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14.06.2018
Verfahren zum Reparieren von Reflektiven Optischen Elementen für die Euv-Lithographie
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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06.06.2018
Projektionsbelichtungsanlage mit Manipulator sowie Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage (10) für die Mikrolithographie mit einem Projektionsobjektiv (22) und einem optischen Manipulator (136, 236, 336), welcher eine Vielzahl von Zonen (146, 246, 346) mit individuell einstellbarer optischer Wirkung aufweist, und umfasst die Schritte: Bestimmen eines Wellenfrontfehlers der Projektionsbelichtungsanlage (10), Generieren eines zur Korrektur des Wellenfrontfehlers geeigneten Stellwegvektors mit Stellwegen für jede Zone (146, 246, 346) des optischen Manipulators (136, 236, 336), Ermitteln eines Einschränkungsparameters bezüglich des Stellwegs für mindestens eine Zone (146, 246, 346) des optischen Manipulators, und Überprüfen der Stellwege des generierten Stellwegvektors auf Ausführbarkeit. Bei einer Einschränkung in der Ausführbarkeit erfolgt ein Beschaffen eines Korrekturwertvektors mit Korrekturwerten für mehrere der Zonen (146, 246, 346) des optischen Manipulators, ein Ermitteln eines korrigierten Stellwegvektors durch Addieren der Korrekturwerte des Korrekturwertvektors zu den entsprechenden Stellwegen des generierten Stellwegvektors, und ein Einstellen der optischen Wirkung aller Zonen (146, 246, 346) des optischen Manipulators mit Hilfe des korrigierten Stellwegvektors zur Kompensation des Wellenfrontfehlers. |
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06.06.2018
Effiziente Dunkelstromsubtraktion in einem Bildsensor
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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