Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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2.391 gesamt| Patent | |||
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06.04.2023
Method for characterizing the surface shape of an optical element, and interferometric test arrangement
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 01.10.2021
Anhängig
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05.04.2023
Dämpfungsanordnung zur Schwingungsdämpfung eines Elements in einem Optischen System
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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30.03.2023
Verfahren zum Bestimmen einer Lage eines Spiegels
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.09.2022
Anhängig
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30.03.2023
Optical component group, in particular for use in an illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.08.2022
Anhängig
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29.03.2023
Verfahren zur Wartung einer Projektionsbelichtungsanlage, Servicemodul und Anordnung für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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23.03.2023
Euv-Lithographiesystem mit einem Gasbindenden Bauteil in Form einer Folie
Optik & Fototechnik
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23.03.2023
Duv-Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.07.2022
Anhängig
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22.03.2023
Verfahren zum Herstellen eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.05.2021
Anhängig
Vertretung
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22.03.2023
Optisches Element, Euv-Lithographiesystem und Verfahren zum Bilden von Nanopartikeln
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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16.03.2023
Method and apparatus for determining a beam tail of a focused particle beam
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.09.2022
Anhängig
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15.03.2023
Verfahren zum Herstellen von Reflektiven Optischen Elementen für den Euv-Wellenlängenbereich sowie Reflektive Optische Elemente für den Euv-Wellenlängenbereich
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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01.03.2023
Verfahren zum Betreiben einer Euv-Lithographievorrichtung und Euv-Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
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23.02.2023
Imaging Optical Arrangement To Image an Object Illuminated By X-Rays
Elektrische Energietechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.07.2022
Anhängig
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16.02.2023
Diffraktives Optisches Element zur Generierung einer Prüfwelle
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.07.2022
Anhängig
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16.02.2023
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem Verbindungselement
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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16.02.2023
Abstützung eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.08.2022
Anhängig
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16.02.2023
Mirror for a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2022
Anhängig
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16.02.2023
Euv-Kollektor zur Verwendung in einer Euv-Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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16.02.2023
Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Auslegung einer Klebstoffschicht
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
Optik & Fototechnik
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15.02.2023
Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen eines Bauteilinnenraums
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
Optik & Fototechnik
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09.02.2023
Verfahren zum Betreiben eines Optischen Systems
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 13.07.2022
Anhängig
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09.02.2023
Temperaturmessvorrichtung, Lithographieanlage und Verfahren zum Messen einer Temperatur
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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01.02.2023
Vorrichtung zur Erfassung einer Temperatur, Anlage zur Herstellung eines Optischen Elementes und Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elementes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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25.01.2023
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Klebeverbindung zwischen einer Ersten Komponente und mindestens einer Zweiten Komponente für die Mikrolithographie
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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25.01.2023
Steuerungssystem, Optisches System und Verfahren
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.02.2020
Erteilt am 25.01.2023
Vertretung
HKW Intellectual Property PartG mbB · München
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19.01.2023
Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung einer Komponente für eine Projektionsbelichtungsanlage und Komponente einer Projektionsbelichtungsanlage
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.07.2022
Anhängig
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18.01.2023
Verfahren zur Querschnittsbildgebung von Inspektionsvolumina in einem Wafer
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.03.2021
Anhängig
Vertretung
Tesch-Biedermann, Carmen · München
Carl Zeiss SMT GmbH · Oberkochen
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11.01.2023
Vorrichtung und Verfahren zum Testen von Photonischen Integrierten Schaltungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.01.2018
Erteilt am 11.01.2023
Vertretung
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05.01.2023
Verfahren zum Abscheiden einer Schicht, Optisches Element und Optische Anordnung für den Duv-Wellenlängenbereich
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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04.01.2023
Reflektierende Beschichtung mit Optimierter Dicke
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 26.02.2014
Erteilt am 04.01.2023
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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29.12.2022
Endpointing by induced desorption of gases and analysis of the re-covering
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2022
Anhängig
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29.12.2022
Lagerungssystem, Lithographieanlage und Verfahren zum Herstellen eines Lagerungssystems
Optik & Fototechnik
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29.12.2022
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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29.12.2022
Messanordnung zur Optischen Vermessung eines Testobjekts
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.06.2022
Anhängig
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29.12.2022
Verfahren zum Ausbilden einer Noppenstruktur, Haltevorrichtung zur Elektrostatischen Halterung eines Bauteils, sowie Euv-Lithographiesystem
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.06.2022
Anhängig
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22.12.2022
Verfahren zum Abscheiden einer Deckschicht, Reflektives Optisches Element für den Euv-Wellenlängenbereich und Euv-Lithographiesystem
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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21.12.2022
Optisches System und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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21.12.2022
Optische Baugruppe, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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15.12.2022
Optische Anordnung und Lithographiesystem mit Strahlungskühlung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.04.2022
Anhängig
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15.12.2022
Optical arrangement for euv lithography and method of regenerating a gas-binding component
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.06.2022
Anhängig
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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