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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
23.05.2018
Beleuchtungssystem einer Mikrorlithografischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
23.05.2018
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
16.05.2018
Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
03.05.2018
Rastersondenmikroskop und Verfahren zur Erhöhung einer Abtastungsgeschwindigkeit eines Rastersondenmikroskops bei der Abtastung im Step-In-Scanmodus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
03.05.2018
Verfahren zur Mikrolithographischen Herstellung Mikrostrukturierter Bauelemente
Optik & Fototechnik
12.04.2018
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit Reduzierter Thermischer Deformation
Optik & Fototechnik
12.04.2018
Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Verringerung aus Dynamischen Beschleunigungen Herrührenden Deformationen von Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
05.04.2018
Projektionsbelichtungsanlage mit Fluessigkeitsschicht zur Wellenfrontkorrektur
Optik & Fototechnik
29.03.2018
Reflektives Optisches Element
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
21.03.2018
Verfahren zur Herstellung eines Euv-Moduls, Euv-Modul und Euv-Lithografiesystem
Optik & Fototechnik
21.03.2018
Optisches Modul mit Verkippbaren Optischen Flächen
Optik & Fototechnik
15.03.2018
Optisches System, insbesondere Lithographieanlage, sowie Verfahren
Optik & Fototechnik
28.02.2018
Spiegel für Euv-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für Mikrolithografie mit Derartigem Spiegel und Projektionsbelichtungsgerät für Mikrolithografie mit einem Derartigen Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
22.02.2018
Optisches System, Lithographievorrichtung und -Verfahren
Optik & Fototechnik
22.02.2018
Projektionsbelichtungsanlage mit einer Messvorrichtung zur Überwachung einer Lateralen Abbildungsstabilität
Optik & Fototechnik
15.02.2018
Scanning probe microscope and method for examining a sample surface
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
15.02.2018
Optisches Modul mit einer Kollisionsschutzvorrichtung für Modulkomponenten
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
15.02.2018
Optical system and method for correcting mask defects using the system
Optik & Fototechnik
25.01.2018
Messvorrichtung zur Interferometrischen Bestimmung einer Form einer Optischen Oberfläche
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
24.01.2018
Einrichtung zur Verschwenkung eines Spiegel-Elements mit Zwei Schwenk-Freiheitsgraden und Sensor zur Bestimmung der Verschwenkung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.01.2018
Verfahren zur Mikrolithographischen Herstellung Mikrostrukturierter Bauelemente, sowie Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
18.01.2018
Einheit zur Optischen Projektion für Euv-Projektionslithografie
Optik & Fototechnik
11.01.2018
Optisches Gitter und Optische Anordnung damit
Optik & Fototechnik
11.01.2018
Measurement system for determining a wavefront aberration
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.01.2018
Mikrolithographische Beleuchtungseinheit
Optik & Fototechnik
27.12.2017
Messanordnung zur Bestimmung der Flugbahnen von Fliegenden Objekten
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
21.12.2017
Optische Anordnung und Verfahren zum Betreiben der Optischen Anordnung
Optik & Fototechnik
07.12.2017
Optische Abbildungsanordnung mit einer Piezoelektrischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
07.12.2017
Mirror for the euv wavelength range
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
07.12.2017
Method and appliance for predicting the imaging result obtained with a mask when a lithography process is carried out
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
06.12.2017
Elektronenkanone, die in einer Teilchenstrahlvorrichtung verwendet wird
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.11.2017
Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit Elementen zur Plasmakonditionierung
Optik & Fototechnik
30.11.2017
Positionsmessung von Optischen Elementen in einer Lithographischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
30.11.2017
Optisches Element und Euv-Lithographiesystem
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
23.11.2017
Montageanordnung für eine Optische Bildgebungsanordnung
Optik & Fototechnik
16.11.2017
Lageranordnung für eine Lithographieanlage sowie Lithographieanlage
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
01.11.2017
Verfahren zum Elektronenstrahlinduzierten Abscheiden von Leitfähigem Material
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.10.2017
Verfahren zur Positionserfassung eines Maskenhalters auf einem Messtisch
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
19.10.2017
Projektionsbelichtungsanlage mit Sensoreinheit zur Partikeldetektion
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.10.2017
Lithographievorrichtung mit einer Vielzahl von Einzeln Ansteuerbaren Schreibköpfen
Optik & Fototechnik

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