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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
15.10.2015
Mirror arrangement, projection lens and euv lithography apparatus
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
08.10.2015
Verfahren zum Justieren eines Spiegels einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
08.10.2015
Optisches Modul mit einer Verformungsanordnung und Verfahren zur Verformung eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
07.10.2015
Anordnung zur Betätigung von wenigstens einem Optischen Element in einem Optischen System
Optik & Fototechnik
01.10.2015
Method and apparatus for generating a predetermined three-dimensional contour of an optical component and/or a wafer
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
17.09.2015
Optisches Bauelement
Optik & Fototechnik
17.09.2015
Vibration-compensated optical system, lithography apparatus and method
Optik & Fototechnik
11.09.2015
Optical element and optical arrangement therewith
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
03.09.2015
Beleuchtungsoptik für die Mikro-Lithografie sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer Derartigen Beleuchtungsoptik
Optik & Fototechnik
02.09.2015
Optische Bildgebungsanordnung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.08.2015
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben eines Solchen
Optik & Fototechnik
27.08.2015
Erfassung einer Ausbreitungsrichtung eines Optischen Strahls
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
27.08.2015
Baugruppe eines Optischen Systems, insbesondere bei einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
27.08.2015
Spiegel-Array
Optik & Fototechnik
27.08.2015
Verfahren zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
27.08.2015
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betreiben eines Solchen
Optik & Fototechnik
27.08.2015
Lithographic apparatus and method
Optik & Fototechnik
20.08.2015
Lagerelement und System zum Lagern eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
20.08.2015
Verfahren zur Verlagerung von mindestens einer Optischen Komponente
Optik & Fototechnik
19.08.2015
Projektionsobjektiv eines Mikrolithografischen Belichtungsgeräts
Optik & Fototechnik
05.08.2015
Verfahren zur Bestimmung der Intensitätsverteilung in der Bildebene einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
29.07.2015
Verfahren zum elektronenstrahlinduzierten Ätzen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.07.2015
Euv-Spiegel und Optisches System mit Euv-Spiegel
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
25.06.2015
Euv lithography system and transport device for transporting a reflective optical element
Optik & Fototechnik
25.06.2015
Verfahren zur Ermittlung der Phasenverteilung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.06.2015
Prüfvorrichtung für Euv-Optik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.06.2015
Optische Beleuchtungseinheit für Mikrolithografie
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
04.06.2015
Trageinrichtung für eine Optische Vorrichtung, Optische Vorrichtung und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
03.06.2015
Optisches Projektionssystem
Optik & Fototechnik
28.05.2015
Reflektives Optisches Element, sowie Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
28.05.2015
Beleuchtungssystem einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
27.05.2015
Reflektierendes Optisches Element und Verfahren zu Seiner Herstellung
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
27.05.2015
Mehrschichtiges und Reflektierendes Optisches Element für Euv-Lithographievorrichtungen mit einer Ersten und einer Zweiten Zusatzzwischenschicht
Elektrische Energietechnik
27.05.2015
Optische Bildgebung mit Verringerten Immersionsflüssigkeitsverdampfungseffekten
Optik & Fototechnik
20.05.2015
Fokussierung eines Abbildungssystems mit Geladenen Teilchen
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.05.2015
Vorrichtung zum Ermitteln eines Kippwinkels wenigstens eines Spiegels einer Lithographieanlage sowie Verfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
07.05.2015
Spiegel, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
30.04.2015
Vielschichtstruktur für Euv-Spiegel
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
29.04.2015
Optische Abbildungseinrichtung mit Bestimmung von Abbildungsfehlern
Optik & Fototechnik
16.04.2015
Facettenelement mit Justagemarkierungen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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