Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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07.04.2016
Actuator, mirror array and microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.09.2015
Anhängig
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31.03.2016
Laserscansystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.09.2015
Anhängig
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31.03.2016
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie sowie Hohlwellenleiter-Komponente hierfür
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
Optik & Fototechnik
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31.03.2016
Optische Anordnung einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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17.03.2016
Verfahren zum Herstellen einer Maske für den Extrem Ultra-Violetten Wellenlängenbereich, Maske und Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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10.03.2016
Beleuchtungsoptik für die Projektionslithografie
Optik & Fototechnik
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10.03.2016
Optische Beleuchtungsanordnung für eine Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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10.03.2016
Optische Beleuchtungsanordnung für Projektionslithografie
Optik & Fototechnik
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10.03.2016
Optische Beleuchtungsanordnung für Projektionslithografie
Optik & Fototechnik
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03.03.2016
Facettenspiegel für eine Optische Beleuchtungseinheit zur Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
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03.03.2016
Beleuchtungsoptik für die Euv-Projektions-Lithografie
Optik & Fototechnik
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25.02.2016
Optisches Element mit einer Beschichtung zur Beeinflussung von Heizstrahlung und Optische Anordnung
Optik & Fototechnik
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25.02.2016
Spiegelmodul, insbesondere zur Verwendung in einer Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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18.02.2016
Vakuumsystem, insbesondere Euv-Lithografiesystem, und Optisches Element
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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18.02.2016
Reflektives Optisches Element
Optik & Fototechnik
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18.02.2016
Maske für die Euv-Lithographie, Euv-Lithographieanlage und Verfahren zum Bestimmen eines durch Duv-Strahlung Hervorgerufenen Kontrastanteils
Optik & Fototechnik
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11.02.2016
Verkippen eines Optischen Elements
Optik & Fototechnik
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04.02.2016
Beleuchtungsvorrichtung für ein Projektionsbelichtungssystem
Optik & Fototechnik
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28.01.2016
Abbildende Optik für ein Metrologiesystem zur Untersuchung einer Lithographiemaske
Optik & Fototechnik
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28.01.2016
Verfahren zum Dreidimensionalen Vermessen eines 3D-Luftbildes einer Lithografiemaske
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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21.01.2016
Lithography apparatus and method of manufacturing devices
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.07.2015
Anhängig
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20.01.2016
Mehrpunkt-Sammeloptik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.05.2012
Erteilt am 20.01.2016
Vertretung
Zimmermann & Partner Patentanwälte mbB · München
Zimmermann & Partner · München
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14.01.2016
Verfahren zur Lokalisierung von Defekten auf Substraten
Optik & Fototechnik
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13.01.2016
Beleuchtungsoptik sowie Abbildende Optik für ein Metrologiesystem für die Untersuchung eines Objekts mit Euv-Beleuchtungs- und Abbildungslicht sowie Metrologiesystem mit einer Derartigen Beleuchtungsoptik Bzw. einer Derartigen Abbildungsoptik
Optik & Fototechnik
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07.01.2016
Elektrische Spule
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 25.06.2015
Anhängig
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07.01.2016
Optical element, optical manipulator, projection lens and projection exposure apparatus
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.06.2015
Anhängig
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07.01.2016
Optischer Manipulator, Projektionslinse und Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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30.12.2015
Rastersondenmikroskop und Verfahren zum Untersuchen einer Oberfläche mit Grossem Aspektverhältnis
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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10.12.2015
Optisches System, insbesondere für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2015
Anhängig
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10.12.2015
Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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02.12.2015
Einrichtung und Verfahren zur Steuerung der Positionierung eines verlagerbaren Einzelspiegels
Optik & Fototechnik
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19.11.2015
Ermittlung einer Korrigierten Grösse
Optik & Fototechnik
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19.11.2015
Projektionsbelichtungsanlage mit Feldnahem Manipulator
Optik & Fototechnik
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19.11.2015
Optimale Anordnung von Aktuier- und Sensorpunkten auf einem Optischen Element
Optik & Fototechnik
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11.11.2015
Optisches Element und Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2007
Erteilt am 11.11.2015
Vertretung
Carl Zeiss AG - Patentabteilung · Oberkochen
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04.11.2015
Optisches System eines Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgeräts und Verfahren zur Minimierung von Bildpositionierungsfehlern
Optik & Fototechnik
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29.10.2015
Vorrichtung und Verfahren zur Regelung der Positionierung einer Vielzahl von Verstellbaren Spiegel-Elementen einer Vielspiegel-Anordnung
Optik & Fototechnik
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28.10.2015
Verfahren zur Revidierung bzw. Reparatur eines lithographischen Projektionsobjektivs
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.07.2007
Erteilt am 28.10.2015
Vertretung
Heuckeroth, Volker · Stuttgart
Witte, Weller & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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28.10.2015
Immersionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.11.2004
Erteilt am 28.10.2015
Vertretung
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15.10.2015
Mirror arrangement, projection lens and euv lithography apparatus
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 31.03.2015
Anhängig
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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