ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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11.02.2026
Gasmischung für Hohlkernfaser zur Erzeugung von Breitbandstrahlung
EP4689791
Optik & Fototechnik
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11.02.2026
Verfahren zur Modellierung von Messdaten über einen Substratbereich und Zugehörige Vorrichtungen
EP4689805
Optik & Fototechnik
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11.02.2026
Verfahren zur Modellierung von Metrologiedaten über einen Substratbereich und Zugehörige Vorrichtungen
EP4689804
Optik & Fototechnik
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11.02.2026
Abdeckring, Substratträger und Lithographischer Apparat
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11.02.2026
Systeme, Verfahren und Computersoftware zur Verstärkung und Steuerung von Licht zur Verwendung in Lithografischen Vorrichtungen
EP4692921
Optik & Fototechnik
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11.02.2026
Verfahren und System zur Fehlerdiagnose und Prädiktiven Wartung in der Halbleiterherstellung unter Verwendung einer Multimodalen Argumentationsmaschine
EP4693113
Software & Datenverarbeitung
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11.02.2026
Substratträgerfach, Belichtungsvorrichtung und Computerimplementiertes Verfahren zum Scannen eines Substrats
EP4692933
Optik & Fototechnik
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04.02.2026
Belichtungsverfahren und Belichtungsvorrichtung
EP4686981
Optik & Fototechnik
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04.02.2026
Belichtungsvorrichtung und Belichtungsverfahren
EP4686980
Optik & Fototechnik
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04.02.2026
Verfahren und Vorrichtung zum Bonden von Substraten
EP4687171
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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04.02.2026
Lasersystem, Anlage zum Belichten eines mit einer Lichtempfindlichen Beschichtung Beschichteten Halbleitermaterials mit Ultraviolettem Licht, Verfahren zum Erzeugen eines Lichtstrahls zum Erzeugen eines Plasmas eines Zielmaterials, das Euv-Licht Emittiert, und Verfahren zum Herstellen von Mikrochips oder Halbleiterzwischenprodukten zum Herstellen von Mikrochips
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28.01.2026
Verfahren zur Bestimmung einer Korrektur Und/oder Abschwächung für eine Lithografische Belichtung und Zugehörige Vorrichtung
EP4685559
Optik & Fototechnik
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28.01.2026
Verfahren und System zur Erzeugung eines Lithografieprozessbewussten Pupillenprofils
EP4684247
Optik & Fototechnik
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28.01.2026
Farbauswahlmodul
EP4685560
Optik & Fototechnik
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28.01.2026
Optisches Element für Geladene Teilchen, Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen und Verfahren zur Herstellung von Elektroden
EP4685837
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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28.01.2026
Verfahren und Vorrichtung zur Homogenisierung eines Strahlenbündels
EP4685529
Optik & Fototechnik
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21.01.2026
Verfahren und System zur Bestimmung Optischer Aberrationen und Lithographische Vorrichtung mit dem System
EP4579340
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
The disclosure provides a method for determining aberrations of projection optics of a lithographic apparatus using multiple first gratings arranged on a reticle (MA) and corresponding multiple second gratings arranged at or near a substrate table (WT), the method comprising the steps of: projecting a beam (B) of radiation from a source (SO) towards the substrate table through an illumination slit (CS) and via projection optics of a projection system (PS); moving the first gratings (15) at a first speed relative to the illumination slit (CS); receiving light reflected from the first gratings by the second gratings (19) while moving the second gratings relative to the first gratings at a second speed, capturing radiation received through the second gratings to provide images, determining phase curves for each pixel of the respective images, and using the phase curves for determining aberrations of the projection optics. |
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21.01.2026
Verfahren zur Herstellung eines Kabelendverschlusses und Kabel
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21.01.2026
Flüssigkeitstransportsystem, Temperaturkonditionierungssystem, Lithografische Vorrichtung und Flexibler Schlauch
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21.01.2026
System und Verfahren zur Ausrichtung eines Substrats
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21.01.2026
Substratträger, Verfahren zum Laden eines Substrats auf einen Substratträger und Lithographische Vorrichtung
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21.01.2026
Hohlkern-Lichtleitfaserbasierte Strahlungsquelle
EP4681021
Optik & Fototechnik
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21.01.2026
Substratträger und Lithographische Vorrichtung
EP4681024
Optik & Fototechnik
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14.01.2026
Verfahren zur Kalibrierung einer Abstimmbaren Lichtquelle in einem Interferometersystem
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Zusammenfassung
The present disclosure provides method of calibrating a tunable light source in an interferometer system, the method comprising the steps of: - simultaneously performing a frequency sweep with the tunable light source across at least one measurement axis and a reference axis of the interferometer system to obtain a frequency response; - obtaining a fit residual of the frequency response of the tunable light source; - obtaining a noise fingerprint of the fit residual; - correlating the noise fingerprint to a reference noise fingerprint; and - calibrating the tunable light source based on the correlation between the noise fingerprint and the reference noise fingerprint. |
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14.01.2026
Modul, Vorrichtung und Verfahren zur Verwendung des Moduls
EP4679482
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.01.2026
Verfahren und System zur Stabilisierung eines Lasers mit Erzeugter Frequenzsumme
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14.01.2026
Anordnung zur Bündelung von Breitbandstrahlung
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14.01.2026
Lithografisches Verfahren
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Status
Angemeldet am 04.09.2018
Erteilt am 14.01.2026
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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14.01.2026
Substratvorrichtung
EP4579341
Optik & Fototechnik
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07.01.2026
Belichtungsapparatpositionssteuerung
EP4567514
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
A method of positioning N modules in an exposure apparatus, wherein N > 2, the method comprises controlling a position of each of the N modules, comprising, for at least one of the N modules, feeding through a position error of the at least one of the N modules to at least two other ones of the N modules. The feeding through comprises multiplying the position errors by a feed through filter matrix, wherein a non-diagonal term in the feed through filter matrix provides a feed through parameter from an error signal of a respective one of the N modules to another one of the N modules. |
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07.01.2026
Verfahren zur Erzeugung von Breitbandstrahlung und Zugehörige Breitbandquelle und Metrologievorrichtung
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07.01.2026
Breitband-Strahlungsquelle
EP4614223
Optik & Fototechnik
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07.01.2026
Sensorsystem und Verfahren zur Erfassung und Lithografische Vorrichtung mit dem Sensorsystem
EP4592750
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
The present disclosure provides a sensor system for use in a lithographic apparatus, the sensor system comprising: - a cooling system to be embedded in a base; - a detector holder provided with a detector and having supports to be connected to the base; - a heat sink connected to the cooling system, the heat sink being thermally disconnected from the detector holder; and - detector electronics thermally coupled to the heat sink for processing a detector signal received from the detector. |
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31.12.2025
Abfragegerät für Phasengenerierten Träger und Abfrageverfahren für den Zugehörigen Phasengenerierten Träger
EP4669927
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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31.12.2025
Substratspeichersystem, Substrathandhabungsvorrichtung, Verfahren zum Vorübergehenden Speichern eines Substrats
EP4672308
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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31.12.2025
Elektrostatische Linse
EP4672297
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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31.12.2025
Verfahren zur Bestimmung eines Gemeinsamen Punktes in Bildern, Vorrichtung und Computerprogramm
EP4671864
Optik & Fototechnik
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31.12.2025
Interferometersystem, Wellenfrontanalysesystem, Projektionssystem, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Analyse einer Wellenfront eines Lichtstrahls eines Heterodyninterferometersystems
EP4670005
Optik & Fototechnik
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31.12.2025
Flüssigkeitshandhabungssystem und Verfahren zur Reduzierung von Defekten Aufgrund von auf einem Substrat Verbleibender Flüssigkeit und Lithografische Vorrichtung mit dem Flüssigkeitshandhabungssystem
EP4670008
Optik & Fototechnik
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31.12.2025
Reinigungsverfahren
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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