Siltronic Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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281 gesamt| Patent | |||
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15.12.2021
Verfahren zum Abtrennen einer Vielzahl von Scheiben mittels einer Drahtsäge von Werkstücken Während einer Abfolge von Abtrennvorgängen
EP3922389
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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01.12.2021
Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium
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03.11.2021
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden einer Epitaktischen Schicht auf einer Substratscheibe aus Halbleitermaterial
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11.08.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Beschichteten Halbleiterscheiben
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04.08.2021
Verfahren zum Abtrennen einer Vielzahl von Scheiben von Werkstücken mittels einer Drahtsäge Während einer Abfolge von Abtrennvorgängen
EP3858569
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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23.06.2021
Verfahren zur Bestimmung von Defektdichten in Halbleiterscheiben aus Einkristallinem Silizium
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16.06.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalls aus Silizium, der mit Dotierstoff vom N-Typ Dotiert Ist
EP3835463
Metallurgie & Oberflächentechnik
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16.06.2021
Verfahren zur Herstellung eines Plattenförmigen Formkörpers mit einer Siliziumkarbid-Matrix
EP3835281
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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29.04.2021
Verfahren zur Herstellung von Halbleiterscheiben
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Status
Angemeldet am 08.10.2020
Anhängig
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28.04.2021
Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus Halbleitermaterial Gemäss der Fz-Methode; Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und Halbleiterscheibe aus Silizium
EP3810834
Metallurgie & Oberflächentechnik
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03.02.2021
Verfahren zum Epitaktischen Beschichten von Halbleiterscheiben
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03.02.2021
Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium
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20.01.2021
Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht in einer Abscheidekammer, Vorrichtung zur Herstellung einer Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht und Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht
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13.01.2021
Verfahren zum Ermitteln und Regeln eines Durchmessers eines Einkristalls Beim Ziehen des Einkristalls
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02.12.2020
Verfahren zum Beidseitigen Polieren einer Halbleiterscheibe
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25.11.2020
Verfahren zum Mechanischen Klassieren von Polysilicium
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18.11.2020
Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Verfahren zu deren Herstellung
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18.11.2020
Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht
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14.10.2020
Verfahren zum Abscheiden einer Epitaktischen Schicht auf einer Vorderseite einer Halbleiterscheibe und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
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09.09.2020
Verfahren und Anlage zum Ziehen eines Einkristalls nach dem Fz-Verfahren
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02.09.2020
Vorrichtung zur Handhabung einer Halbleiterscheibe in einem Epitaxie-Reaktor und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht
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24.06.2020
Siliciumscheibe mit Homogener Radialer Sauerstoffvariation
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24.06.2020
Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls nach dem Fz-Verfahren
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24.06.2020
Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls nach dem Fz-Verfahren
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17.06.2020
Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Vorrichtung zur Herstellung einer Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium
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10.06.2020
Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Verfahren zur Herstellung der Halbleiterscheibe
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03.06.2020
Epitaktisch Beschichtete Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Verfahren zu deren Herstellung
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26.02.2020
Heteroepitaxialwafer und Verfahren zur Herstellung eines Heteroepitaxialwafers
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19.02.2020
Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls aus Halbleitermaterial aus einer Schmelze, die in einem Tiegel Enthalten Ist
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11.09.2019
Aus Einkristallsilicium Hergestellter Halbleiter-Wafer und Verfahren zur Herstellung davon
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Zusammenfassung
A semiconductor wafer made of single-crystal silicon with an oxygen concentration as per new ASTM of not less than 4,9 x 10<17>atoms/ cm<3>and of not more than 6,5 x 10<17>atoms/cm<3>and a nitrogen concentration as per new ASTM of not less than 8 x 10<12>atoms/cm<3>and not more than 5 x 10<13>atoms/cm<3>, wherein a frontside of the semiconductor wafer is covered with an epitaxial layer made of silicon, wherein the semiconductor wafer comprises BMDs of octahedral shape whose mean size is 13 to 35 nm and whose mean density is not less than 3 x 10<8>cm<-3>and not more than 4 x 10<9>cm<-3>, determined by IR tomography. |
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13.06.2019
Läuferscheibe zum Führen von Halbleiterscheiben und Verfahren zur Beidseitigen Politur von Halbleiterscheiben
WO2019110385
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2018
Anhängig
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08.05.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Wiederaufnahme des Drahtsägeprozesses eines Werkstückes nach einer Unplanmässigen Unterbrechung
EP3478437
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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07.03.2019
Heteroepitaxial wafer and method for producing a heteroepitaxial wafer
WO2019042782
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.08.2018
Anhängig
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27.02.2019
Epitaktischer Wafer und Verfahren zur Herstellung davon
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17.01.2019
Semiconductor wafer made of single-crystal silicon and process for the production thereof
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Status
Angemeldet am 25.06.2018
Anhängig
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26.12.2018
Epitaktisch Beschichtete Halbleiterscheibe und Verfahren zur Herstellung einer Epitakisch Beschichteten Halbleiterscheibe
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15.08.2018
Verfahren zur Dampfphasenätzung einer Halbleiterscheibe zur Spurenmetallanalyse
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Status
Angemeldet am 05.04.2016
Erteilt am 15.08.2018
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27.06.2018
Verfahren zur Wärmebehandlung von Granulat aus Silizium, Granulat aus Silizium und Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus Silizium
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13.06.2018
Halbleiterscheibe mit einer Monokristallinen Nitridschicht der Gruppe Iiia
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12.10.2017
Method for the vapour phase etching of a semiconductor wafer for trace metal analysis
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Status
Angemeldet am 23.03.2017
Anhängig
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Wer vertritt Siltronic?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Siltronic vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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