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Siltronic Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutscher Halbleiterzulieferer mit Sitz in München. Siltronic stellt hochreine Siliziumwafer für die Chip- und Elektronikindustrie her.

281
Patente
2000–2024
Anmeldejahre
25
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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281 gesamt
Patent
15.12.2021
Verfahren zum Abtrennen einer Vielzahl von Scheiben mittels einer Drahtsäge von Werkstücken Während einer Abfolge von Abtrennvorgängen
EP3922389 Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
01.12.2021
Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium
EP3701563 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
03.11.2021
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden einer Epitaktischen Schicht auf einer Substratscheibe aus Halbleitermaterial
EP3905311 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.08.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Beschichteten Halbleiterscheiben
EP3475472 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
04.08.2021
Verfahren zum Abtrennen einer Vielzahl von Scheiben von Werkstücken mittels einer Drahtsäge Während einer Abfolge von Abtrennvorgängen
EP3858569 Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
23.06.2021
Verfahren zur Bestimmung von Defektdichten in Halbleiterscheiben aus Einkristallinem Silizium
EP3839107 Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
16.06.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalls aus Silizium, der mit Dotierstoff vom N-Typ Dotiert Ist
EP3835463 Metallurgie & Oberflächentechnik
16.06.2021
Verfahren zur Herstellung eines Plattenförmigen Formkörpers mit einer Siliziumkarbid-Matrix
EP3835281 Anorganische Chemie & Werkstoffe
29.04.2021
Verfahren zur Herstellung von Halbleiterscheiben
WO2021078527 Steuerungs- & Regelungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.04.2021
Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus Halbleitermaterial Gemäss der Fz-Methode; Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und Halbleiterscheibe aus Silizium
EP3810834 Metallurgie & Oberflächentechnik
03.02.2021
Verfahren zum Epitaktischen Beschichten von Halbleiterscheiben
EP3390698 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
03.02.2021
Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium
EP3555348 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
20.01.2021
Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht in einer Abscheidekammer, Vorrichtung zur Herstellung einer Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht und Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht
EP3384073 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
13.01.2021
Verfahren zum Ermitteln und Regeln eines Durchmessers eines Einkristalls Beim Ziehen des Einkristalls
EP3411515 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
02.12.2020
Verfahren zum Beidseitigen Polieren einer Halbleiterscheibe
EP3538319 Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik erteilt
25.11.2020
Verfahren zum Mechanischen Klassieren von Polysilicium
EP3310499 Verfahrens- & Trenntechnik erteilt
18.11.2020
Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Verfahren zu deren Herstellung
EP3387166 Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
18.11.2020
Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht
EP3738138 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.10.2020
Verfahren zum Abscheiden einer Epitaktischen Schicht auf einer Vorderseite einer Halbleiterscheibe und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
EP3721469 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.09.2020
Verfahren und Anlage zum Ziehen eines Einkristalls nach dem Fz-Verfahren
EP3583247 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
02.09.2020
Vorrichtung zur Handhabung einer Halbleiterscheibe in einem Epitaxie-Reaktor und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe mit Epitaktischer Schicht
EP3485508 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
24.06.2020
Siliciumscheibe mit Homogener Radialer Sauerstoffvariation
EP3394325 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
24.06.2020
Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls nach dem Fz-Verfahren
EP3583246 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
24.06.2020
Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls nach dem Fz-Verfahren
EP3583248 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
17.06.2020
Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Vorrichtung zur Herstellung einer Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium
EP3464688 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
10.06.2020
Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Verfahren zur Herstellung der Halbleiterscheibe
EP3662504 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.06.2020
Epitaktisch Beschichtete Halbleiterscheibe aus Einkristallinem Silizium und Verfahren zu deren Herstellung
EP3659173 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.02.2020
Heteroepitaxialwafer und Verfahren zur Herstellung eines Heteroepitaxialwafers
EP3451364 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
19.02.2020
Verfahren zum Ziehen eines Einkristalls aus Halbleitermaterial aus einer Schmelze, die in einem Tiegel Enthalten Ist
EP3523465 Metallurgie & Oberflächentechnik erteilt
11.09.2019
Aus Einkristallsilicium Hergestellter Halbleiter-Wafer und Verfahren zur Herstellung davon
EP3428325 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
13.06.2019
Läuferscheibe zum Führen von Halbleiterscheiben und Verfahren zur Beidseitigen Politur von Halbleiterscheiben
WO2019110385 Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
08.05.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Wiederaufnahme des Drahtsägeprozesses eines Werkstückes nach einer Unplanmässigen Unterbrechung
EP3478437 Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
07.03.2019
Heteroepitaxial wafer and method for producing a heteroepitaxial wafer
WO2019042782 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.02.2019
Epitaktischer Wafer und Verfahren zur Herstellung davon
EP2959500 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
17.01.2019
Semiconductor wafer made of single-crystal silicon and process for the production thereof
WO2019011638 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.12.2018
Epitaktisch Beschichtete Halbleiterscheibe und Verfahren zur Herstellung einer Epitakisch Beschichteten Halbleiterscheibe
EP3248215 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
15.08.2018
Verfahren zur Dampfphasenätzung einer Halbleiterscheibe zur Spurenmetallanalyse
EP3229262 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
27.06.2018
Verfahren zur Wärmebehandlung von Granulat aus Silizium, Granulat aus Silizium und Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus Silizium
EP3337758 Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
13.06.2018
Halbleiterscheibe mit einer Monokristallinen Nitridschicht der Gruppe Iiia
EP3251147 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
12.10.2017
Method for the vapour phase etching of a semiconductor wafer for trace metal analysis
WO2017174371 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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